有光研究室(有機材料化学&光機能化学)　東京理科大学　理工学部　先端化学科

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研究業績

(1) 学術雑誌等に発表した論文（レフリー付）

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1995

    1. Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, “A Novel Concept of Acid Proliferation.  Autocatalytic Fragmentation of an Acetoacetate Derivative as an Acid Amplifier”, Chem. Lett. 1995, 551-552.
    2. Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, Hironori Ohmori, Kunihiro Ichimura, “Sensitivity Enhancement of Chemical-Amplification-Type Photoimaging Materials by Acetoacetic Acid Derivatives”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1995, 8, 43-44.
    3. Kazuaki Kudo, Koji Arimitsu, Hironori Ohmori, Kunihiro Ichimura, “Enhancement of the Sensitivity of Chemical-Amplification-Type Photoimaging Materials by b-Tosyloxyketone Acetals”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1995, 8, 45-46.

1996

    1. Kazuaki Kudo, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Autocatalytic Decomposition of a b-Tosyloxyketone Acetal as an Acid Amplifier”, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1996, 280, 307-312.
    2. Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, Yuko Hayashi, Kunihiro Ichimura, “Effect of Phenolic Hydroxyl Residues on the Improvement of Acid-Proliferation-Type Photoimaging Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1996, 9, 29-30.
    3. Hiromori Ohmori, Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, Yuko Hayashi, Kunihiro Ichimura, “Acid-Catalyzed Rearrangement for Monitoring the Migration of Acids in Polymer Films”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1996, 9, 25-28.

1997

    1. Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago, “Novel Resist Materials Using Acid Amplifiers Part I”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1997, 10, 313-314.
    2. Soh Noguchi, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago, “Novel Resist Materials Using Acid Amplifiers Part II”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1997, 10, 315-316.

1998

    1. Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, Kunihiro Ichimura, “Autocatalytic Fragmentation of Acetoacetate Derivatives as Acid Amplifiers to Proliferate Acid Molecules”, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 37-45.
    2. Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Trioxane Derivative as an Acid Amplifier Exhibiting a Non-linear Organic Reaction”, Chem. Lett. 1998, 823-824.
    3. Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Synthesis of Trioxane Derivative as an Acid Amplifier and its Application for Photopolymer Systems”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1998, 11, 505-506.
    4. Akira Teranishi, Koji Arimitsu, Shin’ya Morino, Soh Noguchi, Kunihiro Ichimura, Hiromitsu Ito, “Visible-Light-Sensitive Photopolymer Systems Using Diol Monosulfonate as Acid Amplifiers”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1998, 11, 159-160.

1999

    1. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, Takeshi Ohfuji, “Synthesis and Characteristics of a Novel Acid Amplifier with a Low Absorbance at 193 nm”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 293-296.
    2. Mana Miyamoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Synthesis of Phenylsulfonylethyl Carbamates as a Base Amplifier and Their Applications to Photopolymer Systems”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 315-316.
    3. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura, “Synthesis of 9-Fluorenylmethyl Carbamates as a Base Amplifier and Their Applications to Photopolymer Systems” J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 317-318.
    4. Takuya Naitou, Takeshi Ohfuji, Masayuki Endo, Hiroaki Morimoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “193 nm Lithography with Novel Highly Transparent Acid Amplifier for Chemically Amplified Resists”, J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 509-514.
    5. Kazuaki Kudo, Koji Arimitsu, Hironori Ohmori, Hiromitsu Ito, Kunihiro Ichimura, “3-Phenyl-3,3-ethylenedioxy-1-propyl Sulfonates as Acid Amplifiers to Enhance the Photosensitivity of Positive-working Photoresists”, Chem. Mater. 1999, 11, 2119-2125.
    6. Kazuaki Kudo, Koji Arimitsu, Hironori Ohmori, Hiromitsu Ito, Kunihiro Ichimura, “Acid Proliferation Processes of 3-Phenyl-3,3-ethyleneidoxypropyl Sulfonates in Photosensitive Polymer Films Leading to "Air-infection"”, Chem. Mater. 1999, 11, 2126-2131.

2000

    1. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura, “Applications of a Nonlinear Organic Reaction of Carbamates to Proliferate Aliphatic Amines”, Angew. Chem. Int. Ed. 2000, 39, 3425-3428: Angew. Chem. 2000, 112, 3567.
    2. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura, “Sensitivity Enhancement of a Photocuring Material by Base Amplifiers”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 157-158.
    3. Sungeun Lee, Koji Arimitsu, Sang-Wook Park, Kunihiro Ichimura, “Synthesis and Evaluation of Novel Acid Amplifiers Liberating Fluoroalkanesulfonic Acids”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 215-216.
    4. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Sungeun Lee, Kunihiro Ichimura, “Synthesis of a Novel Polymer with Acid Amplifier Unit in the Side Chain and Application for Photoresist Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 217-220.
    5. Masaru Tahara, Koji Arimitsu, Sang-Wook Park, Sungeun Lee, Kunihiro Ichimura, “Monitoring the Acidolytic Behavior of a Latent Pigment Enhanced by an Acid Amplifier in Polymer films”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 221-222.
    6. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Poly(cis-3-(ethanesulfonyloxy)-2-pinanyl methacrylate-co-tert-butyl methacrylate) as an Acid-amplifying Photoresist”, Macromol. Rapid Commun. 2000, 21, 1050-1053.
    7. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Sungeun Lee, Kunihiro Ichimura, “A Novel Photoresist Based on Polymeric Acid Amplifiers”, Chem. Lett. 2000, 1036-1037.

2001

    1. Koji Arimitsu, Kazuaki Kudo, Hironori Ohmori, Kunihiro Ichimura, “Factors Affecting Photosensitivity Enhancement of Chemically Amplified Photoresists by an Acid Amplifier”, J. Mater. Chem. 2001, 11, 295-301.
    2.  [Front cover] Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Phototriggered Acid Proliferation to Enhance Photosensitivity of Chemically Amplified Photoresists”, Macromol. Chem. Phys. 2001, 202, 453-460.

2002

    1. Koji Arimitsu, Masayuki Hashimoto, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “UV-Curable Organic-Inorganic Hybrids Containing a Base Amplifier”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 41-42.
    2. Yoshimoto Abe, Michiko Kaji, Koji Arimitsu, Ken-ichi Suyama, Takahiro Gunji, “Syntheses and Properties of Sila-functional Oligosiloxanes -Synthesis, Structure, and Spectra of Linear and Cyclic Isocyanato(methyl)oligosiloxanes-”, Silicon Chemistry 2002, 1, 367-375.

2003

    1. Tkahiro Gunji, Hiroshi Okonogi, Tomomi Sakan, Norihiro Takamura, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Organic-inoragnic Hybrid Gel Films Based on Polyvinylpolysilsesquioxane Synthesized from Trimethoxy(vinyl)silane”, Appl. Organometal. Chem. 2003, 17, 580-588.
    2. Yoshimoto Abe, Ryosuke Shimano, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, “Preparation and Properties of High Molecular Weight Polyethoxysiloxanes Stable to Self-condensation by Acid-catalyzed Hydrolytic Polycondensation of Tetraethoxysilane”, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2003, 41, 2250-2255.
    3. Isamu Seto, Takahiro Gunji, Kaoru Kumagai, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Syntheses and Structural Analyses of 1,3-Diphenyldisiloxane as a Building Block of Ladder Silsesquioxanes”, Bull. Chem. Soc. Jpn 2003, 76, 1983-1987.
    4. Yuichi Morikawa, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Characteristics of Silicone Resins as Base Amplifiers and Their Applications to Photopatterning”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2003, 16, 81-82.
    5. Takahiro Gunji, Takeshi Gomi, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Syntheses of Disilane Unit Containing Metallasiloxanes and Their Properties as Ceramic Precursors”, Material Technology 2003, 21, 80-87.

2004

    1. Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Nonlinear Organic Reaction of 9-Fluorenylmethyl Carbamates as Base Amplifiers to Proliferate Aliphatic Amines and Their Application to a Novel Photopolymer System”, J. Mater. Chem. 2004, 14, 336-343.
    2. Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Masaru Tahara, “Photoacid-catalyzed Pigmentation of Dyestuff Precursors Enhanced by Acid Amplifiers in Polymer Films”, J. Mater. Chem. 2004, 14, 1164-1172.
    3. Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Novel Base-amplifying Silicone Resins with Photobase-generating Side Chains”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2004, 17, 19-20.
    4. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Polymers with Acid-amplifying Side Chains as Positive-type Photoresists”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2004, 17, 427-432.
    5. Kunihiro Ichimura, Akira Igarashi, Koji Arimitsu, Takahiro Seki, “Polymers with Base-amplifying Side Chains. Synthesis and Properties”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2004, 17, 433-434.
    6. Takahiro Gunji, Yasuhiro Iizuka, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Aikoxy(methyl)silsesquioxanes as Coating Agents”, J. Polym. Sci.: Part A Polym. Chem. 2004, 42, 3676-3684.
    7. Takahiro Gunji, Fumihito Kizuki, Daisuke Minagawa, Koji Arimitsu Yoshimoto Abe, “Studies on the Synthesis and Characterization of Titanium Coating Organic-Inorganic Hybrid from Styrene / Maleic Anhydride Alternating Copolymers” Shikizai 2004, 77, 345-349.
    8. Takahiro Gunji, Shingo Kusuda, Mitsuhiro Okada, Hiroyuki Nakayama, Daisuke Takagi, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Syntheses of Metallocene Containing Cyclometallasiloxanes and Their Properties”, Material Technology 2004, 22, 244-250.
    9. Chengxu Sun, Koji Arimitsu, Koki Abe, Takahiro Ohkubo, Takashi Yamashita, Hideki Sakai, Masahiko Abe, “Synthesis and Photochemical Properties of a Cationic Surfactant Having a Spiropyran Group”, Material Technology 2004, 22, 229-237.
    10. Takahiro Gunji, Yohsuke Sakai, Yusuke Suyama, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of C60-Polysiloxane Hybrids”, J. Sol-Gel Sci. Technol. 2004, 32, 43-46.
    11. Yoshimoto Abe, Michiko Kaji, Koji Arimitsu, Ken-ichi Suyama, Takahiro Gunji, “Syntheses and properties of sila-functional oligosiloxanes: Synthesis, structure, and spectra of linear and cyclic isocyanato(methyl)oligosiloxanes”, Silicon Chemistry 2004, 1, 367-375.
    12. Yoshimoto Abe, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, “Present conditions of the development of organic/inorganic hybrids”, Hyomen, 2004, 42, 216-225.

2005

    1. Takahiro Gunji, Mitsuo Unno, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, N. Long, A. Bubendorfer, “Preparation of YBCO and BSCCO Superconducting Thin Films by a New Chemical Precursor Method”, Bull. Chem. Soc. Jpn. 2005, 78, 187-191.
    2. Takahiro Gunji, Yuji Kawaguchi, Hiroshi Okonogi, Tomomi Sakan, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Organic-Inoragnic Hybrid Gel Films Based on Polyvinylpolysilsesquioxane Synthesized from Trimethoxy(vinyl)silane”, J. Sol-Gel Sci. Technol. 2005, 33, 9-13.
    3. Takahiro Gunji, Satoshi Tanikawa, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation of Polymethylsilsesquioxanes by the Base-catalyzed Hydrolytic Polycondensation of Triisopropoxy(methyl)silane”, J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem. 2005, 43, 3623-3630.
    4. Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Positive-working Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins Having Fluorenyl Groups”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 171-172.
    5. Koji Arimitsu, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Positive-working Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins Having Phenylsulfonyl Groups”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 173-174.
    6. Kyousuke Isoda, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Highly Sensitive UV-Curing Materials Containing Base-amplifying Tetrasiloxane”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 225-226.
    7. Koji Arimitsu, Yusuke Ito, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Application of Novel Base Amplifiers with 3-Nitropentan-2-yl Group to UV-Curing Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 227-228.
    8. Akira Igarashi, Koji Arimitsu, Ken-ichi Aoki, Kunihiro Ichimura, “Water-developable Base-amplifying Copolymers”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 419-420.
    9. Ken’ichi Aoki, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Synthesis of Oligomeric Base-generators to Apply to Photopolymer Systems”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 133-134.

2006

    1. Takahiro Gunji, Ryosuke Shimano, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Characterization of Mesoporous Silica Thin Films from Polyethoxysiloxanes”, J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem. 2006, 44, 2542-2550.
    2. Satoru Inoue, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Positive-working Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins with Photobase-generating Groups”, J. Photopolym. Sci. Technol. 2006, 19, 73-74.
    3. Takahiro Gunji, Minako Akazawa, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Chemical Modification of SWCNT and VGCF by Radical Addition Reaction”, Chem. Lett. 2006, 35, 630-631.
    4. Ken-ichi Suyama, Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Synthesis and Structure of Ladder Oligosilsesquioxane: Tricyclic Ladder Oligomethylsilsesquioxanes”, Organometallics 2006, 25, 5587-5593.

2007

    1. Takahiro Gunji, Yosuke Sakai, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Polyethoxysilsesquioxane-C60 Hybrids”, J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem. 2007, 45, 3273-3279.
    2. Akira Igarashi, Koji Arimitsu, Takahiro Seki, Kunihiro Ichimura, “Multicolor Patterning of Base-amplifying Polymers by Chemical Modification”, Koubunnsi Ronbunsyu 2007, 64(11), 805-811.
    3. Satoru Inoue, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “A Novel Negative-working Photoimaging Material Based on a Base-amplifying Silicone Resin Tethering Phenylsulfonylethyl Groups”, Chem. Lett. 2007, 36, 1308-1309.
    4. Akira Igarashi, Koji Arimitsu, Takahiro Seki, Kunihiro Ichimura, “Novel Water-developable Photoimaging Materials Consisting of Base-amplifying Polymers and a Photobase Generator”, Material Technology, 2007, 25, 285-293.
    5. Kenichi Miyakawa, Chihiro Fujii, Koji Arimitsu, Yukinori Nagao, “Synthesis of 1,1-dichloro-2,5-diphenylsilacyclopent-3-enes by the chlorination of 1,1-diethoxy- and bis(optically active alkoxy)-2,5-diphenylsilacyclopent-3-enes”, Heterocycles, 2007, 74, 863-872.

2008

    1. Akira Igarashi, Koji Arimitsu, Takahiro Seki, Kunihiro Ichimura, “Novel Base-sensitive Polymers Generating Amino Groups from Their Side Chains in a Nonlinear Manner and Their Application to Photoimaging Materials”, J. Mater. Chem., 2008, 18, 560-566.
    2. Kenichi Miyakawa, Eri Hamanishi, Koji Arimitsu, Yukinori Nagao, “Synthesis of optically active 1-alkoxysilacyclopentane derivatives”, Heterocycles, 2008, 76, 1617-1625.

2009

    1. Yukinori Nagao, Ryosuke Endo, Mizuho Tokumaru, Koji Arimitsu, “Synthesis of 7-anilino-5,8-dimethylisoquinolines having electron-attracting group on anilino moiety”, Heterocycles, 2009, 77, 1403-1408.
    2. Koji Arimitsu, Ayumu Kushima, Ryosuke Endo, “Novel Photobase Generators and Their Application to Photopolymers”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2009, 22, 663-666.
    3. Akira Igarashi, Koji Arimitsu,Takahiro Seki, Kunihiro Ichimura, “Characteristics of Base-amplifying Polymers and Teir Applications to Photoimaging Materials”, Hyomen (Surface), 2009, 47, 22-34.
    4. 長尾幸徳、梶川美保子、小澤幸三、有光晃二、浦野年由、 「p-テルフェニルおよびベンゾフェノン誘導体の合成とそれらの青色半導体レーザー用増感色素としての性質」、 色材協会誌, 2009, 82, 338-344.
    5. Masaaki. Haneda, Naoya. Aoki, Koji Arimitsu, Hideaki. Hamada, “Activity Enhancement of WO3-Promoted Ir/SiO2 Catalysts by High-Temperature Calcination for the Selective Reduction of NO with CO”, Bull. Chem. Soc. Jpn, 2009, 82, 1023-1029.

2010

    1. Koji Arimitsu, Ryosuke Endo, “Photochemical Generation of Superbases and Its Application to Photoreactive Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2010, 23, 135-136.
    2. Yukinori Nagao, Tatsuro Yoshida, Koji Arimitsu, Kozo Kozawa, “Synthesis and Properties of Dicarboximide Derivatives of Perylene and Azaperylene”, Heterocycles, 2010, 80, 1193-1213.
    3. 長尾幸徳、斉藤健志、土屋昌俊、須田宗平、 有光晃二、小澤幸三、 「トリフェニルアミン系ホール輸送材料の合成とそれらを用いた色素増感太陽電池特性」、 色材協会誌, 2010, 83, 256-262.

2011

    1. Yukinori Nagao, Keisuke Matsushita, Kozo Kozawa, Koji Arimitsu, “Photoelectrical Properties of Dye Sensitized Solar Cell Using Azomethine Dyes in Solution and Polymer Solid Electrolyte”, Heterocycles, 2011, 29, 65-72.

2012

    1. Yukinori Nagao, Tomohiro Iwano, Maki Hirano, Koji Arimitsu, Kozo Kozawa, “Synthesis and Properties of Unsymmetrical N,N’-Dialkylterrylenebis(dicaboxymide) Derivatives and Their Related Derivatives”, Heterocycles, 2012, 84, 815-828.
    2. Takahiro Gunji, Yuki Hayashi, Akemi Komatsubara, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Flexible Free-standing Films via Polyalkoxysiloxanes by Acid-catalyzed Controlled Hydrolytic Polycondensation of Tetraethoxysilane and Tetramethoxysilane”, Applied Organometallic Chemistry, 2012, 26, 32-36.
    3. Hideki Sakai, Shohei Aikawa, Wataru Matsuda, Takashi Ohmori, Yuko Fukukita, Yoji Tezuka, Atsutoshi Matsumura, Kanjiro Torigoe, Koji Tsuchiya, Koji Arimitsu, Kazutami Sakamoto, Kenichi Sakai, Masahiko Abe, “A Cinnamic Acid-Type Photo-Cleavable Surfactant”, J. Colloid Interface Sci., 2012, 376, 160-164
    4. 有光晃二、「光塩基発生反応と塩基増殖反応を用いた高感度光反応性材料の開発」、有機合成化学協会誌、2012、70, 508-516.
    5. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Ravi Joshi, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, “Acid Generating Mechanism for Extreme Ultraviolet Resists Containing Pinanediol Monosulfonate Acid Amplifiers: A Puls Radiolysis Study”, Japanese Journal of Applied Physics, 2012, 51, 046502.

2013

    1. Koji Arimitsu, Miho Hirai, “Characteristics of acid-capture films containing photobase generators for a solar battery”, Material Technology, 2013, 31(3), 68-74.
    2. Koji Arimitsu, Junko Toda, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Synthesis of anthraquinone precursors and photoinduced regeneration of anthraquinone in a polymer film”, Material Technology, 2013, 31(4), 94-99.
    3. Koji Arimitsu, Midori Arai, Junko Toda, Yukinori Nagao, “Observation of base diffusion behavior in a polymer film using a base-reactive latent pigment”, Material Technology, 2013, 31(5), 119-125.
    4. Koji Arimitsu, Ryosuke Endo, “Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency Based on Photodecarboxylation Reactions”, Chem. Mater., 2013, 25, 4461-4463.
    5. Takahiro Gunji, Takayoshi Tozune, Hironori Kaburaki, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation of Co-polymethyl(alkoxy)siloxanes by Acid-Catalyzed Controlled Hydrolytic Co-polycondensation of Methyl(trialkoxy)silane and Tetralkoxysilane”, J. Polym. Sci. Part A: Polm. Chem., 2013, 51, 4732-4741.

2014

    1. 有光晃二, 石井聡, 郡司天博, 阿部芳首, 「塩基増殖基を有する光塩基発生剤の合成とネガ型フォトポリマーへの応用」 高分子論文集, 2014, 71, 53-58.
    2. Koji Arimitsu, Yohei Suyama, “Thermal Curing Behavior of Epoxy Resins Containing 9-Fluorenylmethyl Carbamates as Thermal Base Generators”, Material Technology, 2014, 32, 10-16.
    3. Nobuhiro Ishikawa, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Development of Photobase Generator with Benzoin Derivatives and Its Application to Photosensitive Materials”, Chem. Lett., 2014, 43, 612-614.
    4. Koji Arimitsu, Ken Fukuda, Nobuhiko Sakai, “Photochemical Generation of Superbases from Phthalimidoacetic Acid Derivatives and Its Application to Anionic UV Curing”, Chem. Lett., 2014, i43, 831-833.
    5. Nobuhiro Ishikawa, Koji Arimitsu, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Photosensitivity Characteristics of UV Curable Organic-inorganic Hybrids Sensitized with Benzoin Derivatives as Photobase Generators”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2014, 27, 223-225.
    6. Koji Arimitsu, Yuri Sato, Masahiro Furutani, “Synthesis of Photolatent Thiols with Nitrobenzyl groups and Their Application to Photoreactive Materials” Material Technology, 2014, 32, 153-160.
    7. Koji Arimitsu, Ryousuke Yamamoto, Midori Arai, Masahiro Furutani, “Photoinduced pigmentation using base-reactive indigo precursors in a polymer film”, Chem. Lett., 2014, 43, 1698-1700.
    8.  [Front cover] Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Base-amplifying silicone resins generating aliphatic secondary amines autocatalytically: synthesis, characterization and application to positive-working photoresists”, Polymer Chemistry, 2014, 5, 6671-6677.
    9. Koji Arimitsu, Daiki Iijima, Masahiro Furutani, Yasuyuki Yamada, Takeshi Wakiya, “Preparation of silica particles modified with base-amplifying groups and their application to anionic UV curing”, Chem. Lett., 2014, 43, 1921-1923

2015

    1. Koji Arimitsu, Yuri Takemori, Atsushi Nakajima, Ayaka Oguri, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Photobase Generators Derived from trans-o-Coumaric Acid for Anionic UV Curing Systems without Gas Generation”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 1174-1177.
    2. Koji Arimitsu, Ayaka Oguri, Masahiro Furutani, “365 nm-Light-sensitive Photobase Generators Derived from Trans-o-coumaric Acid”, Mater. Lett., 2015, 140, 92-94. 
    3. Koji Arimitsu, Hiroshi Kitamura, Ryuta Mizuochi, Masahiro Furutani, “Synthesis of Oxidised Thioxanthene-type Base Amplifiers and Their Application to Photoreactive Materials”, Chem. Lett., 2015, 44, 309-311.
    4. Masahiro Furutani, Hiroshi Kobayashi, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Koji Arimitsu, “Base-Amplifying Silicone Resins with Photobase-Generating Side Chains and Their Application to Negative-Working Photoresists”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 1205-1212.
    5. Koji Arimitsu, Yuya Maruyama, Masahiro Furutani, “Photobase Generators Liberating Two Bases by Absorbing One Photon and Their Application to Photosensitive Materials”, Chem. Lett., 2015, 44, 1194-1196.
    6. Koji Arimitsu, Yune Kumazawa, Masahiro Furutani, “Preparation of Base-Amplifying Microcapsules and Their Application to Photoreactive Materials”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 2440-2443.
    7. Nobuhiro Ishikawa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Adhesive Materials Utilizing a Thymine-Adenine Interaction and Thymine Photodimerization”, ACS Macro Lett., 2015, 4, 741-744.
    8. Koji Arimitsu, Sawako Fuse, Kenji Kudo, Masahiro Furutani, “Imidazole Derivatives as Latent Curing Agents for Epoxy Thermosetting Resins”, Mater. Lett., 2015, 161, 408-410.
    9. Koji Arimitsu, Motoki Yonekura, Masahiro Furutani, “Acid-amplifying Polymers: Synthesis, Characterization, and Application to Environmentally Stable Chemical Amplification Positive (ESCAP) Resists”, RSC Advances, 2015, 5, 80311-80317. 
    10. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Cysteine-derived Cross-linker for Anionic UV Curing of Epoxy Resins”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2015, 28, 737-738.
    11. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazole Derivatives with an Intramolecular Hydrogen Bond as Thermal Latent Curing Agents for Thermosetting Resins”, ACS Macro Lett., 2015, 4, 1085-1088.

2016

    1. Nobuhiro Ishikawa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Pressure-Sensitive Adhesive Utilizing Molecular Interactions between Thymine and Adenine”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 1332-1338.
    2. Koji Arimitsu, Shota Amano, Masahiro Furutani, “Acid amplifying microcapsules: preparation and application to cationic UV curing”, RSC Advances, 2016, 6, 7893-7896.
    3. Masahiro Furutani, Ayaru Kakinuma, Koji Arimitsu, “Synthesis of a Bifunctional Base Amplifier Containing a Disulfide Bond and Its Application to Photoreactive Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2016, 29, 607-608.
    4. Koji Arimitsu, Kazuki Tomota, Sawako Fuse, Kenji Kudo and Masahiro Furutani, “A non-linear organic reaction of malonate derivative as a base amplifier to generate imidazoles without producing gas”, RSC Advances, 2016, 6, 38388-38390.
    5. Kenji Kudo, Sawako Fuse, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazole-type Thermal Latent Curing Agents with High Miscibility for One-component Epoxy Thermosetting Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 2680-2688.
    6. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazobenzoxazin-5-ones as Thermal Latent Curing Agent for Thermosetting Epoxy Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 3411-3414.
    7. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Anionic UV curing of epoxy resins containing gold cations with cysteine derivatives”, Material Technology, 2016, 34, 113-121.
    8. Masahiro Furutani, Daichi Yamakawa, Koji Arimitsu, “Synthesis and characterization of base amplifiers derived from amino acids”, Material Technology, 2016, 34, 122-130.
    9. Koji Arimitsu, Yohei Suyama, Masahiro Furutani, “Epoxy thermal curing using phenylsulfonylethyl carbamates as thermal base generators”, Material Technology, 2016, 34, 131-140.

2017

    1. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photosensitivity Characteristics of Novel Resists Consisting of a Photobase Generator and an Epoxy Resin”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2017, 30, 271-273.
    2. Koji Arimitsu, Saori Sugioka, Koji Watanabe, Masahiro Furutani, “Anionic UV curing of epoxy resins containing dispersed scaly silica modified with base-amplifying groups”, Prog. Org. Coat., 2017, 113, 185-188.
    3. 有光晃二、柳正義、古谷昌大、“有機強塩基を発生するアセト酢酸塩型光塩基発生剤の合成およびチオール－エポキシ混合樹脂のアニオンUV硬化への応用”、ネットワークポリマー、2017, 38, 158-164. 
    4. (Review) 有光晃二、“エポキシ樹脂の光硬化　～光反応とその増幅～”、日本接着学会誌、2017, 53, 398-404.

2018

    1. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “O-Fmoc-Protected 3-Hydroxy-2-butenoate Derivatives as Thermal Latent Curing Agents for Thermosetting Epoxy Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2018, 56, 471-474.
    2. (Review) 古谷昌大、有光晃二、“ジスルフィド結合などの開裂性化学結合を利用した解体性接着剤”、日本接着学会誌、2018, 54(8), 302-309.
    3. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Development of Photobase Generators Liberating Radicals as well as Bases and Their Application to Hardcoating Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2018, 31, 493-496.
    4. Kunihiro Noda, Takehiro Seshimo, Issei Suzuki, Koichi Misumi, Dai Shiota, Shun Kikuchi, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu,, “Behavior of Si-Si Bond Oxidation by Electron Beam Lithography”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2018, 31, 581-585.
    5. Masahiro Furutani, Ayaru Kakinuma, Koji Arimitsu, “A Dismantlable Photoadhesion System Fabricated by an Anionic UV Curing of Epoxy Resins with a Base Amplifier Having a Disulfide Bond”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2018, 56, 237-241.

2019

    1. Masahiro Furutani, Takashi Ide, Shinobu Kinoshita, Raita Horiguchi, Ichiro Mori, Kazuhiro Sakai, Koji Arimitsu, “Initiator-Free Photopolymerization of Common Acrylate Monomers with 254-nm Light”, Polymer International, 2019, 68, 79-82.
    2. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, ”Photoresist materials comprising photobase generators and epoxy resins bearing carboxylic acids to lead to marked enhancement of base-catalyzed cross-linking reactions”, Polymer Advanced Technologies, 2019, 30, 304-311.
    3. 【Cover Picture】Koji Arimitsu, Eishiro Hiraga, and Masahiro Furutani, “Photopatterning of PEDOT Derivatives with Photoacid Generators and Acid Amplifiers Generating Polystyrenesulfonic Acid”, ACS Appl. Polym. Mater., 2019, 1, 924-927.
    4. Masahiro Furutani, Kaoru Endo, Koji Arimitsu, “Synthesis of dimerized 2-mercaptpyridine derivatives and their application to dismantlable photoadhesives”, Material Technology, 2019, 37(2), 27-31.
    5. Kunihiro Noda, Shun Kikuchi, Naohiko Ikuma, Dai Shiota, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Structural Analysis of Ionic Photobase Generators and Lithographic Patterning of Polysilane Films Containing the Photobase Generators”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32(2), 265-270.
    6. Masahiro Furutani, Kentaro Nakayama, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu, “Photoadhesive of Acrylates Containing Cross-links of Dipyridyl Disulfide”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32(4), 619-622.
    7. Masahiro Furutani, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu, “Relief of Shrinkage of UV-cured Materials by Exchange Reactions of Disulfide Bonds”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32(4), 623-626.

2020

    1. Masahiro Furutani, Daiki Fujihira, Koji Arimitsu, “Photoadhesive Materials Containing 2Mercaptopyridyl Moieties”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2020, 33(3), 261-267.
    2. 有光晃二、「光塩基発生反応とその増幅」、ネットワークポリマー論文集、2020, 41(5), 207-213. 

2021

    1. Yasuyuki Sanai, Takeru Ninomiya, Koji Arimitsu, “Improvements in the physical properties of UV-curable coating by utilizing type II photoinitiator”, Progress in Organic Coating, 2021, 151, 106038-106052
    2. 有光晃二、青木大亮、「光反応による架橋」、接着の技術、2021, Vol. 41, 9-15. 

2022

    1. Masahiro Furutani; Kentaro Nakayama; Kazuki Okuma; Koji Arimitsu, “Role of dipyridyl disulfide cross-linking moieties in an acrylate photo-adhesive material”, Journal of Polymer Research, 2022, 29(6), 245.

 

(2)プロシーディングスに発表した論文

｜2022｜2016｜2011｜2010｜2008｜2007｜2006｜2004｜2003｜2002｜2000｜1999｜1997｜

1997

    1. Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago, “Novel Photoimaging Materials Using Acetoacetate Derivatives as Acid Amplifiers”, Proc. RadTech Asia ‘97 1997, 689-692.
    2. Soh Noguchi, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago, “Novel Photoimaging Materials Using Diol Monosulfonate Derivatives as Acid Amplifiers”, Proc. RadTech Asia ‘97 1997, 693-695.

1999

    1. Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Takeshi Ohfuji, Takuya Naito, “1,2-Diol Monosulfonates as Acid Amplifiers for Photolithography”, Proc. ACS PMSE 1999, 81, 63-63.
    2. Takeshi Ohfuji, Takuya Naito, Masayuki Endo, Hiroaki Morimoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Lithography Performance of ArF Chemically Amplified Resists Using Acid Amplifier”, Proc. ACS PMSE 1999, 81, 64-64.
    3. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura, “Base Proliferation Reactions and Their Applications to Photopolymer Systems”, Proc. ACS PMSE 1999, 81, 93-94.

2000

    1. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura, “Base Proliferation Reactions and Their Applications 9.  Nonlinear Organic Reaction of 9-Fluorenylmethyl Carbamates and Its Applications to Photocuring Materials”, Proc RadTech Japan 2000 Symposium 2000, 154-157.
    2. Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Akira Igarashi, Kunihiro Ichimura, “Base Proliferation Reactions and Their Applications 10.  Nonlinear Organic Reaction of Phenylsulfonylethyl Carbamates and Its Applications to Photocuring Materials”, Proc RadTech Japan 2000 Symposium 2000, 229-232.
    3. Sungeun Lee, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Novel Acid Amplifiers Liberating Fluoroalkanesulfonic Acids and Thier Applications to Acid-proliferation Type Photoresists”, Proc RadTech Japan 2000 Symposium 2000, 237-240.
    4. Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Sensitivity Characteristics of Acid-Proliferation Type Photoresists Based on Polymeric Acid Amplifiers”, Proc RadTech Japan 2000 Symposium 2000, 249-252.
    5. Masaru Tahara, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, “Pigmentation of Acid-labile Latent Pigments Enhanced by an Acid Amplifier in Polymer Films”, Proc RadTech Japan 2000 Symposium 2000, 253-256.

2002

    1. Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Silicon-based Organic-inorganic Hybrids from Vinyltrimethoxysilane”, Proc. 75th JSCM Anniversary Conference 2002, 46-49.
    2. Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Zirconium Coating Organic-inorganic Hybrids”, Proc. 75th JSCM Anniversary Conference, 2002, 50-53.
    3. Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Acid and Base Proliferation Reactions and Their Applications to Photoreactive Materials”, Proc. 75th JSCM Anniversary Conference 2002, 304-307.

2003

    1. Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Masaru Tahara, “Marked Enhancement of Photoacid-catalyzed Pigmentation by Acid Amplifiers to Produce Pigment-dispersed Polymer Films with High Transparency”, Proc. RadTech Asia ’03 2003, 159-162.
    2. Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Sensitivity Enhancement of Anionic UV-Curing by Base Amplifiers”, Proc. RadTech Asia ’03 2003, 293-296.
    3. Koji Arimitsu, Yuichi Morikawa, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Novel Photoimaging Materials Consisting of a Photobase Generator and Siloxane Oligomers as Base Amplifiers”, Proc. RadTech Asia ’03 2003, 312-315.

2004

    1. Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Preparation and Properties of Alkoxy(methyl)silsesquioxane as Coating Agents”, Polymer Preprints 2004, 45(1), 622-623.
    2. Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, Yoshimoto Abe, “Syntheses and Properties of Ladder Oligosilsesquioxanes”, Polymer Preprints 2004, 45(1), 624-625.

2006

    1. Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Highly Sensitive Photoimaging Materials Based on Nonlinear Organic Reactions of Base-amplifying Silicone Resins”, Abstracts of Papers, 232nd ACS National Meeting, San Francisco, CA, United States, Sept. 10-14, 2006 2006, PMSE-358.
    2. Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Highly Sensitive Photoimaging Materials Based on Nonlinear Organic Reactions of Base-amplifying Silicone Resins”, ACS PMSE Preprints 2006, 95, 642-643.

2007

    1. Koji Arimitsu, Yusuke Ito, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Application of Novel Base Amplifiers with 3-Nitropentan-2-yl Group to Photoreactive Materials”, in Nanostructured and Patterned Materials for Information Storage, edited by Z. Z. Bandic, M. Rooks, R. Berger, T. Ando (Mater. Res. Soc. Sympo. Proc. 961E, Warrendale, PA, 2007), 0961-O11-05.
    2. Satoru Inoue, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins Having Phenylsulfonylethyl Groups”, in Nanostructured and Patterned Materials for Information Storage, edited by Z. Z. Bandic, M. Rooks, R. Berger, T. Ando (Mater. Res. Soc. Sympo. Proc. 961E, Warrendale, PA, 2007), 0961-O11-06.
    3. Koji Arimitsu, “Application of Base Proliferation Reactions to Photoreactive Materials”, Proc. 80th JSCM Anniversary Conference 2007, 68-69.

2008

    1. Koji Arimitsu, “Application of base amplifiers to photoreactive materials”, Proc. RadTech China ’08, 2008, 51-55.
    2. Koji Arimitsu, “Nonlinear organic reaction of carbamates as base amplifiers to proliferate aliphatic amines and their application to a novel photoreactive system” RadTech UV/EB Technology Expo & Conference 2008 Proceedings, 2008, 7 pages (CD-ROM).

2010

    1. Koji Arimitsu, “Photochemical generation of superbases and its application to photoreactive materials” RadTech UV/EB Technology Expo & Conference 2010 Proceedings, 2010, 5 pages (Online proceedings, http://www.radtech.org).
    2. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa, “Acid proliferation reaction for sensitivity enhancement of EUV resists”, 2010 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography Proceedings, 2010 in press.

2011

    1. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa, “Acid proliferation to improve the sensitivity of EUV resists: a pulse radiolysis study”, Proc. of SPIE “Advanced Lithography 2011”, 2011, 7969, 79692M-1-79692M-10.
    2. Koji Arimitsu, “Photochemical Generation of Strong Bases and Its Application to Anionic UV-Curing”, Proc. RadTech Asia 2011, 2011, 210-211.

2016

    1. Koji Arimitsu, “Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency”, Proc. RadTech Asia 2016, 2016, 2 pages (CD-ROM).
    2. Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Cross-Linking Reagent Derived from Cysteine and its Application to Anionic UV Curing”, Proc. RadTech Asia 2016, 2016, 2 pages (CD-ROM).

2022

    1. Masahiro Furutani, Daiki Fujihira, Kaoru Endo, Koji Arimitsu, “Fabrication of photo-adhesive materials utilizing chemical properties of 2-mercaptopyridyl groups”, Proc. RadTech Asia 2022, 2022, 2 pages (CD-ROM).
    2. Kenyu Sugita, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Synthesis of polysilane midified with glycidyl methacrylate and fabrication of negative-tone photopatterns”, Proc. RadTech Asia 2022, 2022, 2 pages (CD-ROM).
    3. Ataru Daimon, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “UV curing of shadow parts at room temperature by photoinduced redox-initiated radical polymerization”, Proc. RadTech Asia 2022, 2022, 1 page (CD-ROM).
    4. Nanami Ogawa, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Anioninc UV curing behavior of epoxy resins containing a photobase generator releasing aminopyridine”, Proc. RadTech Asia 2022, 2022, 1 page (CD-ROM).

 

(3) 解説・総説など

｜2021｜2020｜2019｜2018｜2017｜2016｜2015｜2014｜2013｜2012｜2011｜2010｜2009｜2007｜2006｜2004｜2003｜2002｜2001｜1998｜1997｜

1997

    1. 有光晃二, 市村國宏, 「増殖反応を組み込んだ高感度有機系光画像形成材料」, 機能材料, 1997, 17, 16-24.
    2. 有光晃二, 市村國宏, 「有機系光画像形成材料の超高感度化」, 光化学, 1997, 25, 38-39.

1998

    1. Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Kazuaki Kudo, “Acid Proliferation Reactions and Their Application to Chemically Amplified Lithographic Imaging”, In Micro- and Nanopatterning Polymers; H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, T. Ueno, Ed.; Oxford University Press: Washington, 1998; p 161-171.

2001

    1. 有光晃二, 郡司天博, 阿部芳首, 「機能材料としてのモレキュラーハイブリッド」, ケミカルエンジニアリング, 2001, 46, 38-43.

2002

    1. 有光晃二, 阿部芳首, 市村國宏, 「塩基増殖反応とその光反応性材料への応用」, 機能材料, 2002, 22, 10-18.
    2. 阿部芳首, 郡司天博, 有光晃二, 「無機高分子の新材料としての応用展開」, マテリアルインテグレーション, 2002, 15, 17-21.

2003

    1. 有光晃二, 「塩基増殖反応を利用した光反応性材料」, 第82回ラドテック研究会講演会要旨集, 2003, 7-13.

2004

    1. 有光晃二, 「ガスクロマトグラフ質量分析計」, 理大　科学フォーラム, 2004, 21, 裏表紙.
    2. 阿部芳首, 有光晃二, 郡司天博, 「シリカ系有機･無機ハイブリッド材料開発の現状」, 表面, 2004, 42, 20-29.

2006

    1. 有光晃二, 「塩基増殖剤の開発と光反応性材料への応用」, RADTECH JAPAN NEWSLETTER, 2006, 60, 5-6.

2007

    1. 有光晃二, 「マサチューセッツ工科大学（MIT）Timothy M. Swager研究室」, RADTECH JAPAN NEWS LETTER, 2007, 64, 2-3.
    2. 有光晃二, 「酸あるいは塩基を増殖する新規な有機化学反応とその応用」, 理大　科学フォーラム, 2007, 24, 46-47.

2009

    1. 有光晃二, 「研究室紹介　東京理科大学　理工学部　工業化学科　有光研究室」, フォトポリマー懇話会ニュースレター, 2009, 48, 6-7.
    2. 鷲尾方一, 有光晃二, 「高分子科学最近の進歩 光・電子線硬化」, 高分子, 2009, 58, 923-928.
    3. 有光晃二, 「アニオンUV硬化技術の最新動向」, コンバーテック, 2009, 37, 87-91.
    4. Koji Arimitsu, 「Hot topics; Highly Sensitive Photopolymers Enhanced by Phototriggered Base Proliferation Reactions」, 高分子, 2009, 58, 2-2.

2010

    1. 有光晃二, 「光重合開始剤・光重合触媒」, ファインケミカルズ, 2010, 39, 35-42.

2011

    1. 有光晃二, 「高感度アニオンUV硬化材料の開発」, 塗装工学, 2011, 46, 106-111.

2012

    1. 有光晃二, 「高効率な光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」, RADTECH JAPAN NEWS LETTER, 2012, 85, 6-8.
    2. 有光晃二, 松川公洋, 「光硬化技術の最近の進歩と方向性」, プラスチックスエージ, 2012, 58, 80-84.

2013

    1. 有光晃二, 「光潜在性チオールおよび光塩基発生剤の開発とUV硬化材料への応用」, 電材ジャーナル, 2013, 617, 11-14.
    2. 有光晃二, 「高感度な新規光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」, MATERIAL STAGE, 2013, 13, 75-77.
    3. 有光晃二, 「UV/EB硬化技術の最近の進歩と展望」, 化学工業日報, 2013, 6-7.
    4. 有光晃二, 「UV/EB硬化技術の最近の進歩と展望」, RADTECH JAPAN NEWS LETTER, 2013, 91, 4-8.

2014

    1. 有光晃二, 「高感度な新規光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」, ファインケミカル, 2014, 43, 62-65.
    2. 有光晃二、石井拓、「光潜在性チオールの開発とUV硬化材料への応用」, ファインケミカル, 2014, 43, 56-61.
    3. 有光晃二、飯島大貴、「アニオンUV硬化型有機無機複合材料」, ファインケミカル, 2014, 43, 61-68.
    4. Koji Arimitsu, “Latest Progress and Prospects of UV/EB Curing Technology”, RadTech Japan News Letter International Edition, 2014, 13, 2-6.
    5. 松川公洋、有光晃二、「光硬化技術の最近の進歩」、プラスチックスエージ、2014, 82-86.
    6. 有光晃二、古谷昌大、「光塩基発生剤および塩基増殖剤の開発とアニオンUV硬化への応用」、科学と工業、2014, 88, 1-8.
    7. Koji Arimitsu, “Latest Progress and Prospects of UV/EB Curing Technology”, RADTECH REPORT, 2014, 3, 25-29.

2015

    1. 有光晃二、「カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー」, 高分子, 2015, 64, 266-267.

2016

    1. 有光晃二、「UV硬化を用いた高耐久性セルフクリーニング膜の作製」, 光触媒, 2016, 50, 44-47.

2017

    1. 有光晃二、「UV硬化技術の最新動向」, 機能材料, 2017, 37, 3-9.

2018

    1. 古谷昌大、有光晃二、「光で固めて、熱で分かつ―光接着とその熱解体」、理大　科学フォーラム, 2018, 35, 34-39.
    2. 有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」, 強化プラスチックス, 2018, 64, 21-30. 
    3. 有光晃二、「フォトレジスト材料とUV硬化材料」、フォトポリマー懇話会、2018, 82, 1-3.
    4. 有光晃二, 「分子増幅を駆使した高感度UV硬化材料の創製と影部硬化」, MATERIAL STAGE, 2018, 18, 61-64.

2019

    1. 有光晃二, 「光硬化技術の最近の進歩」, プラスチックスエージ, 2019, 65, 85-92.
    2. 有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化～光反応の増幅～」, 高分子, 2019, 68, 556-557. 

2020

    1. 有光晃二, 「RadTech Asia 2021への期待」, RADTECH JAPAN NEWS LETTER, 2020, 117, 2-2.

2021

    1. 有光晃二, 青木大亮, 「酸・塩基増殖反応を用いた高感度フォトレジスト材料」, 機能材料, 2021, 41, 12-19.

 

(4) 著書

｜2022｜2021｜2020｜2019｜2018｜2017｜2016｜2015｜2014｜2013｜2012｜2011｜2008｜2006｜2005｜2004｜2002｜

2002

    1. 市村國宏、有光晃二、「酸および塩基増殖反応とフォトポリマー」、光機能性有機・高分子材料の新局面（監修　市村國宏）、シーエムシー出版, 2002, 200-210.

2004

    1. 郡司天博、有光晃二、阿部芳首、「シロキサンおよびシルセスキオキサン」、２１世紀の有機ケイ素化学－機能物質科学の宝庫－（監修　玉尾晧平）、シーエムシー出版, 2004, 227-238.

2005

    1. 郡司天博、有光晃二、阿部芳首、「共重合体からのナノハイブリッドの調製」、ナノハイブリッド材料の最新技術、シーエムシー出版, 2005, 45-50.
    2. 有光晃二他31名、総合化学実験＜上・下巻＞（編集　総合化学実験編集委員会）、DTP出版, 2005.
    3. 郡司天博、有光晃二、阿部芳首、「フラーレン分散有機－無機ハイブリッドの合成」、ゾル-ゲル法のナノテクノロジーへの応用、シーエムシー出版, 2005, 79-87.

2006

    1. 有光晃二、「固体中の光化学の特徴」、光応用技術・材料辞典（監修　山岡亞夫）、㈱産業技術サービスセンター, 2006, 64-65.
    2. 有光晃二、「酸および塩基増殖剤」、光応用技術・材料辞典（監修　山岡亞夫）、㈱産業技術サービスセンター, 2006, 581-585.
    3. 有光晃二、「塩基増殖剤を利用した高感度光硬化システム」、UV硬化材料開発事例集～光硬化システムの設計・評価および新規応用～、情報機構, 2006, 130-137.

2008

    1. 有光晃二、「塩基増殖反応を用いたシリコーン樹脂のUVアニオン硬化とパターン形成」、光機能性高分子材料の新たな潮流‐最新技術とその展望、シーエムシー出版, 2008, 257-267.
    2. 有光晃二、「塩基増殖反応を利用したアニオンＵＶ硬化システム」、ＵＶ硬化プロセスの最適化、サイエンス＆テクノロジー株式会社, 2008, 131-138.

2011

    1. 有光晃二、「光塩基発生剤および塩基増殖剤」、電子部品用エポキシ樹脂の最新技術II（監修　越智光一、岸肇、福井太郎）、シーエムシー出版、2011, 70-78.
    2. 【教科書】有光晃二、「ベーシックマスター　高分子化学」（西久保忠臣　編）、オーム社、2011, 185-203.
    3. 有光晃二、「第2章第5節　カチオン重合における湿気(水分)による硬化阻害への各対策手法」、UV硬化のトラブル対策事例集、技術情報協会、2011, 49-50.
    4. 有光晃二、「第2章第4節　アニオン重合における低感度硬化への対策手法」、UV硬化のトラブル対策事例集、技術情報協会、2011, 51-53.
    5. 有光晃二、「第3章第8節　デュアルUV硬化による完全硬化技術」、UV硬化のトラブル対策事例集、技術情報協会、2011, 94-98.
    6. 有光晃二、「第9章第2節　カチオン硬化性樹脂におけるアウトガス発生要因と各対策手法」、UV硬化のトラブル対策事例集、技術情報協会、2011, 205-206.
    7. 有光晃二、「第9章第3節　アニオン硬化性樹脂におけるアウトガス発生要因と各対策手法」、UV硬化のトラブル対策事例集、技術情報協会、2011, 207-208.

2012

    1. 有光晃二（分担）、研究のためのセーフティサイエンスガイド‐これだけは知っておこう‐」（東京理科大学安全教育企画委員会　編）、朝倉出版、2012, 33-36.

2013

    1. 有光晃二、「アニオン系開始剤」、電子部品用機能性粘着・接着剤（監修　越智光一、岸肇、栗山晃）、シーエムシー出版、2013, 46-52.

2014

    1. 有光晃二、「光酸・塩基発生剤と酸・塩基増殖剤」、架橋の反応・構造制御と分析事例集、技術情報協会、2014, 151-159.
    2. 有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－」、シーエムシー出版、2014、7月7日発行
    3. 有光晃二、「第1章　UV・EB硬化技術の現状と展望」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、1-6.
    4. 有光晃二、古谷昌大、「第7章　光塩基発生剤」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、50-54.
    5. 有光晃二、石井拓、古谷昌大、「第8章　光潜在性チオール」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、55-61.
    6. 有光晃二、天野翔太、古谷昌大、「第9章　光開環メタセシス重合開始剤」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、62-65.
    7. 有光晃二、飯島大貴、古谷昌大、「第15章　UV硬化型有機-無機複合材料」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、111-119.

2015

    1. 有光晃二、「高感度な新規光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」、エポキシ樹脂の“特性改良”と“高機能/複合化”技術、技術情報協会、2015、125-127.
    2. 有光晃二、古谷昌大、「第6章　光塩基発生剤および塩基増殖剤」、電子部品用エポキシ樹脂‐半導体実装材料の最先端技術‐（監修　高橋昭雄）、シーエムシー出版、2015、73-81.

2016

    1. 有光晃二、「エポキシ樹脂におけるUV硬化制御」、エポキシ樹脂の○○化／機能性の向上, サイエンス＆テクノロジー株式会社、2016、176-187.

2017

    1. 有光晃二、古谷昌大、「酸・塩基増殖反応を利用した超高感度フォトレジスト材料」、最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術、シーエムシー出版、2017、43-49.
    2. 有光晃二、「第3章第4節　光塩基発生剤の構造とアニオンUV硬化への応用」、UV硬化樹脂の配合設計、特性評価と新しい応用、技術情報協会、2017、101-106.
    3. 有光晃二、「第3章第6節　連鎖的な酸・塩基発生反応を利用した影部分の光硬化」、UV硬化樹脂の配合設計、特性評価と新しい応用、技術情報協会、2017、122-127.

2018

    1. 有光晃二、「エポキシ樹脂硬化剤の基礎と反応機構」、エポキシ樹脂の高機能化と上手な使い方、R&D支援センター、2018、71-80.

2019

    1. 有光晃二、「光塩基発生剤の開発とUV硬化材料への応用」、光機能性有機・高分子材料における新たな息吹、シーエムシー出版、2019、295-303.
    2. 有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化～光反応とその増幅～」、エポキシ樹脂の硬化メカニズム解析と機能設計、シーエムシー出版、2019、182-195.

2020

    1. 有光晃二、「第5章　第1節　光ラジカル重合の概要、光吸収と重合反応、照射装置の種類と使い方」、ラジカル重合を中心としたポリマー・微粒子・コーティング材の合成、応用、トラブル対策、技術情報協会、2020、329-331.
    2. 有光晃二、「第5章　第2節　光ラジカル重合開始剤の種類と特性」、ラジカル重合を中心としたポリマー・微粒子・コーティング材の合成、応用、トラブル対策、技術情報協会、2020、332-335.
    3. 有光晃二、「第5章　第3節　光誘起レドックス開始ラジカルUV硬化」、ラジカル重合を中心としたポリマー・微粒子・コーティング材の合成、応用、トラブル対策、技術情報協会、2020、336-337.
    4. 有光晃二、「第5章　第4節　光潜在性チオールと光チオール／エン反応への応用」、ラジカル重合を中心としたポリマー・微粒子・コーティング材の合成、応用、トラブル対策、技術情報協会、2020、338-342.

2021

    1. 有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新開発動向」、シーエムシー出版、2021、3月1日発行.
    2. 有光晃二、「第2章　第3節　新規な光塩基発生剤の開発とUV硬化への利用」、UV・EB硬化技術の最新開発動向（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2021、48-54.
    3. 有光晃二、「第2章　第5節　電荷移動錯体を開始剤とする可視光による光ラジカル重合」、UV・EB硬化技術の最新開発動向（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2021、63-66.
    4. 有光晃二、「第5章　第1節　光誘起フロンタル重合」、UV・EB硬化技術の最新開発動向（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2021、135-138.
    5. 有光晃二、「第5章　第2節　光誘起レドックス開始ラジカルUV硬化」、UV・EB硬化技術の最新開発動向（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2021、139-142.
    6. 有光晃二、「第2章　第2節　可視光を吸収する新規な光ラジカル重合開始剤の開発と応用」、重合開始剤、硬化剤、架橋剤の選び方、使い方とその事例、技術情報協会、2021、146-148.
    7. 有光晃二、「第2章　第6節　厚膜、影部硬化に向けた光塩基発生剤および塩基増殖剤の開発と応用例」、重合開始剤、硬化剤、架橋剤の選び方、使い方とその事例、技術情報協会、2021、176-184.
    8. 有光晃二、青木大亮、「第3章　第1節　光重合開始剤・増感剤の基礎」、UV硬化樹脂の開発動向と応用展開、サイエンス＆テクノロジー、2021、33-48.
    9. 有光晃二、青木大亮、「第3章　第2節　分子増幅を駆使した影部分のUV硬化」、UV硬化樹脂の開発動向と応用展開、サイエンス＆テクノロジー、2021、49-56.
    10. 有光晃二、青木大亮、「コーティングにおける硬化反応の基礎」、機能性コーティング材料の最新動向（監修　松川公洋）、シーエムシー出版、2021、46-58.

2022

    1. 有光晃二、「第3章　エポキシ樹脂の光硬化～基礎と光反応の増幅～」、エポキシ樹脂の設計技術と市場2022、シーエムシー出版、2022、37-52.
    2. 有光晃二、「酸・塩基増殖反応を用いた高感度フォトレジスト材料」、フォトレジストの最先端技術（監修　遠藤政孝）、シーエムシー出版、2022、84-93.
    3. 有光晃二（分担執筆）、高分子材料の辞典（高分子学会編）、朝倉出版、2022.

 

(5) 受賞

　 1. 受賞名：Photopolymer Science and Technology Award 2000 
        受賞先：Technical Association of Photopolymers, Japan 
        受賞日：平成12年6月

    2. 受賞名：高分子学会日立化成賞 
        受賞先：高分子学会 
        受賞日：平成17年9月21日

    3. 受賞名：2009年度材料技術研究協会討論会ゴールドポスター賞
        受賞先：材料技術研究協会
        受賞日：平成21年12月5日

    4. 受賞名：2011年度材料技術研究協会討論会ゴールドポスター賞
        受賞先：材料技術研究協会
        受賞日：平成23年12月3日

    5. 受賞名：2012年度材料技術研究協会討論会ゴールドポスター賞
        受賞先：材料技術研究協会
        受賞日：平成24年12月8日

    6. 受賞名：論文賞 
        受賞先：材料技術研究協会
        受賞日：平成26年4月28日

    7. 受賞名：論文賞 
        受賞先：材料技術研究協会
        受賞日：平成29年4月22日

    8. 受賞名：Polym. Adv. Technol. 2019, 30, 304がTop Downloaded Paper 2018-2019 に選出 
        受賞先：Wiley
        受賞日：2020年4月30日

   

(6) 学会発表・セミナー講師等

【受賞講演】

1. 平成17年度　高分子学会日立化成賞

    有光晃二、「酸・塩基増殖反応の開発とそのフォトポリマーへの応用」、第54回高分子討論会、山形大学小白川キャンパス、2005年9月21日

2.平成26年度材料技術研究協会論文賞

　 有光晃二、郡司天博、阿部芳首、長尾幸徳、戸田順子、荒井碧、平井美穂、「光塩基発生剤を利用した光機能材料の開発」、2014年度材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパス、2014年12月5日

【招待講演】（国内）

｜2022｜2021｜2020｜2019｜2018｜2017｜2016｜2015｜2014｜2012｜2011｜2010｜2009｜2007｜2006｜2005｜2003｜2001｜

2001
    1. 【招待】有光晃二、「酸・塩基増殖反応と光反応材料への応用」、第50回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2001年5月23日
2003
    1. 【招待】有光晃二、「塩基増殖反応を利用した光反応性材料」、第82回ラドテック研究会講演会、学士会館本館（神田）、2003年4月11日
2005
    1. 【招待】有光晃二、「塩基増殖反応を利用した光パターニング材料」、日本化学会第85春季年会－アドバンスト・テクノロジー・プログラム（デジタル社会を支える材料化学）－、神奈川大学横浜キャンパス、2005年3月28日
    2. 【招待】有光晃二、「酸・塩基増殖反応の開発とそのフォトポリマーへの応用」、高分子学会同友会、高分子学会会議室、2005年11月24日
2006
    1. 【依頼】有光晃二、「塩基増殖剤の開発とフォトポリマーへの応用」、フォトポリマー懇話会第157回例会、大阪科学技術センター、2006年2月9日
2007
    1. 【招待】Koji Arimitsu, “Application of Base Proliferation Reactions to Photoreactive Materials”, 80th JSCM Anniversary Conference “New Fields in Colour and Coatings”, September 13, 2007, Tokyo University of Science-Kudan Campus, Tokyo, Japan
2009
    1. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤および塩基増殖剤の開発と光反応性材料への応用」、第111回ラドテック研究会講演会、学士会館本館（神田）、2009年2月27日
    2. 【招待】有光晃二、「高感度フォトポリマーの開発」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月27日（新型インフルエンザ感染拡大防止のため中止）
2010
    1. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、“エポキシ樹脂およびその応用の最近の進歩”エポキシ樹脂協会主催　第34回公開講座（東京の部）、工学院大学、2010年7月22日
    2. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、“エポキシ樹脂およびその応用の最近の進歩”エポキシ樹脂協会主催　第34回公開講座（大阪の部）、日本ペイント株式会社、2010年7月29日
    3. 【依頼】有光晃二、「高感度アニオンUV硬化材料の創製」、第9回ものづくり・先端計測科学研究部門シンポジウム、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2010年12月3日
2011
    1. 【招待】有光晃二、「酸･塩基増殖反応を用いた高感度フォトポリマーの創製」、高分子学会第28回千葉地域活動若手セミナー、東京理科大学野田キャンパス、2011年3月10日
    2. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤および塩基増殖剤を利用した高感度アニオンUV硬化材料の開発」、JST東京理科大学新技術説明会、科学技術振興機構JSTホール(東京・市ヶ谷)、2011年7月29日
    3. 【招待】有光晃二、「高感度フォトポリマーの創製」、第20回ポリマー材料フォーラム、タワーホール船堀（東京都江戸川区船堀）、2011年11月25日
2012
    1. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」、第126回ラドテック研究会講演会、学士会館本館、2012年4月17日
    2. 【招待】有光晃二、「新規な光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化への応用」、大阪ニュークリアサイエンス協会第50回UV/EB研究会、住友クラブ（大阪）、2012年6月1日
    3. 【招待】有光晃二、「新規な光塩基発生剤および光潜在性チオールの開発～UV硬化材料の高感度化と硬化不良対策～」、JST東京理科大学新技術説明会、科学技術振興機構JST東京別館ホール(東京・市ヶ谷)、2012年7月20日
    4. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、"エポキシ樹脂および応用技術の最近の動向"エポキシ樹脂協会主催　第36回公開講座（東京の部）、工学院大学、2012年7月26日
    5. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、"エポキシ樹脂および応用技術の最近の動向"エポキシ樹脂協会主催　第36回公開講座（大阪の部）、日本ペイント株式会社、2012年8月2日
2014
    1. 【招待】有光晃二、「光クリックケミストリーの基礎とUV硬化へ応用」、“光クリックケミストリーの基礎と応用”、第204回フォトポリマー懇話会講演会、森戸記念館（東京理科大学）、2014年6月12日
    2. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、エポキシ樹脂協会特別講演、東京・グランドヒル市ヶ谷、2014年6月19日
    3. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤および光潜在性チオールの開発とUV硬化材料への応用」、第20回ノーブルライト・フュージョン技術セミナー、東京会場（ロイヤルパークホテル）、2014年11月11日
    4. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤および光潜在性チオールの開発とUV硬化材料への応用」、第20回ノーブルライト・フュージョン技術セミナー、大阪会場（帝国ホテル大阪）、2014年11月13日
2015
    1. 【招待】有光晃二、「高感度フォトポリマーの創製」、第31回ポリマー光部品（POC）研究会、（独）産業技術総合研究所臨海副都心センター、2015年3月2日
2016
    1. 【招待】有光晃二、「光塩基発生剤とその応用」、“光開始剤と応用”、第216回フォトポリマー懇話会講演会、森戸記念館（東京理科大学）、2016年6月13日
    2. 【招待】有光晃二、「高効率なUV硬化でつくる有機－無機複合材料」、16－1　高分子学会　無機高分子研究会セミナー、和光純薬工業㈱　湯河原研修所、2016年10月14日
2017
    1. 【招待】有光晃二、「酸・塩基触媒反応を利用した高感度フォトポリマーの創製」、大阪ニュークリアサイエンス協会第66回UV/EB研究会、住友クラブ（大阪）、2017年9月1日
    2. 【招待】有光晃二、「新規な光塩基発生剤の開発とUV硬化への応用」、日本接着学会、次世代接着材料研究会PartⅥ 第6回例会、フォーラムミカサエコ（東京・神田）、2017年9月11日
    3. 【招待】有光晃二、「高効率な光硬化システムの構築」、日本接着学会、関西接着ワークショップ、大阪府立大学I-siteなんば、2017年11月8日
2018
    1. 【招待】有光晃二、「分子増殖反応を利用した高感度フォトレジストの開発」、電気化学会第85回大会、東京理科大学葛飾キャンパス、2018年3月9日
    2. 【招待】有光晃二、「カスケード式分子増幅システムを利用した高感度フォトポリマー」、ファインケミカルジャパン2018　特別講演、2018年4月19日、東京ビッグサイト（口頭発表）
    3. 【招待】有光晃二、「カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場
    4. 【招待】有光晃二、「新規な光開始システムと影部分のUV硬化」、第158回ラドテック研究会講演会、2018年8月28日、東京理科大学神楽坂キャンパス（口頭発表）
    5. 【招待】有光晃二、「新規な光開始システムと影部分のUV硬化」、18－2印刷・情報・電子用材料研究会、2018年9月25日、東京理科大学森戸記念館（口頭発表）
    6. 【依頼】有光晃二、「分子増殖反応を利用した高感度フォトレジスト材料の開発」第61回放射線化学討論会、2018年9月27日、大阪市立大学（杉本キャンパス）（口頭発表）
2019
    1. 【招待】有光晃二、「UV硬化の基礎と応用」、19－3印刷・情報・電子用材料研究会および2019年度第4回ナノインプリント技術研究会、2019年11月28日、産業技術総合研究所臨海副都心センター別館11階会議室１（口頭発表）
    2. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、“エポキシ樹脂とその応用技術の最近の進歩”、エポキシ樹脂技術協会主催　第43回公開技術講座（東京の部）、自動車会館、2019年7月18日（口頭発表）
    3. 【招待】有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化」、“エポキシ樹脂とその応用技術の最近の進歩”、エポキシ樹脂技術協会主催　第43回公開技術講座（大阪の部）、大阪産業技術研究所、2019年7月26日（口頭発表）
2020
    1. 【招待】有光晃二、「ネットワークポリマーの基礎」、第69回高分子討論会（オンライン開催）、岩田大学上田キャンパス、2020年9月16日（口頭発表 1V04IL）
2021
    1. 【招待】有光晃二、「高感度フォトポリマーの創製～光反応とその増幅～」、光化学協会光化学応用講座2020－光化学からの最新フォトポリマーへの展望－、オンライン開催、2021年1月20日（口頭発表）
    2. 【招待】有光晃二、「カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー」、高分子学会　20－1超分子研究会、オンライン開催、2021年1月22日（口頭発表）
2022
    1. 【招待】有光晃二、「カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー」、日本接着学会　構造接着・精密接着研究会　2022年度第2回研究講演会、オンライン開催、2022年7月28日（口頭発表）

【招待講演】（国際）

｜2016｜2009｜2008｜

2008
    1. 【招待】Koji Arimitsu, “Application of base amplifiers to photoreactive materials”, Annual Meeting 2008 of RadTech China, April 9, 2008, Hangzhou Zhijiang Hotel, Hangzhou, China.
    2. 【招待】Koji Arimitsu, “Nonlinear organic reaction of carbamates as base amplifiers to proliferate aliphatic amines and their application to a novel photoreactive system”, RadTech UV/EB Technology Expo & Conference 2008, May 6, 2008, McCormick Place, Chicago, IL, USA
2009
    1. 【招待】Koji Arimitsu, “Application of Base Amplifiers to Photoreactive Materials Utilizing Base-catalyzed Reactions”, 11th Pacific Polymer Conference 2009 (PPC11), December 6-10, 2009, Cairns Convention Centre, Carins, Australia.
2016
    1. 【招待】Koji Arimitsu, “Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency”, RadTech Asia 2016, October 24-27, 2016, Hilton Tokyo Odaiba, Tokyo, Japan.

【セミナー講師】

｜2022｜｜2021｜2020｜2019｜2018｜2017｜2016｜2015｜2014｜2013｜2012｜2011｜2010｜2008｜2007｜2005｜

2005
    1. 有光晃二、「光化学の基礎」、ラドテック研究会勉強会、飯田橋レインボービル会議室、2005年11月18日（金）13:00～14:30
2007
    1. 有光晃二、「光酸･塩基発生剤および酸･塩基増殖剤の特性と光機能性材料への応用」、サイエンス＆テクノロジー㈱　主催、亀戸文化センター（カメリアプラザ）6F 第3研修室、2007年10月23日
    2. 有光晃二、「光酸・塩基発生反応の増幅と光機能性材料への応用」、“UV/光硬化樹脂のトレンド技術”、㈱技術情報協会　主催、中央大学駿河台記念館510号室、2007年12月18日
2008
    1. 有光晃二、「光化学の応用」、ラドテック研究会勉強会、飯田橋レインボービル会議室、2008年1月18日
    2. 有光晃二、「光酸･光塩基発生剤および酸･塩基増殖剤の特性と光反応性材料への応用」、情報機構　主催、産業貿易センター、2008年7月22日
    3. 有光晃二、「光酸・塩基発生剤および酸･塩基増殖剤の特性とその使い方」、“光酸･塩基発生剤の目的に応じた選択・配合・組み合わせ方”㈱技術情報協会　主催、（五反田）ゆうぽうと5Fはまゆう、2008年11月25日
2010
    1. 有光晃二、「光塩基発生剤および塩基増殖剤を用いた光硬化性有機－無機ハイブリッド材料の特性」、“ハードコートの高機能化事例”技術情報協会　主催、（五反田）ゆうぽうと、2010年6月30日
    2. 有光晃二、「光酸･塩基発生剤および酸･塩基増殖剤を利用した高感度UV硬化材料」、“デュアルＵＶ硬化での材料・硬化系の選び方･組み合わせ方”、㈱技術情報協会　主催、きゅりあん、2010年9月30日
2011
    1. 有光晃二、「光酸･塩基発生反応を利用したUV硬化樹脂の影部分の硬化不良対策」、“UV硬化におけるトラブルの発生要因とその対策”、技術情報協会　主催、（五反田）ゆうぽうと、2011年2月24日
    2. 有光晃二、「フォトポリマーの材料設計」、フォトポリマー講習会、フォトポリマー懇話会主催、千葉大学けやき会館、2011年8月24日
    3. 有光晃二、「光酸･塩基発生反応を利用したUV硬化樹脂の影部分の硬化不良対策」、“UV硬化樹脂の技術トレンドとトラブル対策”、技術情報協会　主催、（五反田）ゆうぽうと、2011年12月20日
2012
    1. 有光晃二、「感光性樹脂の反応メカニズムと開始剤の設計および高感度化の手法」、サイエンス＆テクノロジー㈱　主催、きゅりあん（品川区大井町）、2012年1月31日
    2. 有光晃二、「UV硬化樹脂の基礎・応用と硬化不良対策」、㈱電子ジャーナル　主催、総評会館（御茶ノ水）、2012年3月5日
    3. 有光晃二、「UV硬化樹脂の反応メカニズムと開始剤の設計、硬化不良対策」、㈱情報機構　主催、大田区産業プラザ、2012年5月22日
    4. 有光晃二、「新規な光塩基発生剤の開発とアニオンUV硬化へ応用」、大阪ニュークリアサイエンス協会第50回UV/EB研究会、住友クラブ、2012年6月1日
    5. 有光晃二、「光酸・塩基発生反応とその増幅」、ラドテック研究会勉強会、飯田橋レインボービル会議室、2012年6月15日
    6. 有光晃二、「フォトポリマーの材料設計」、フォトポリマー講習会、フォトポリマー懇話会主催、東京理科大学森戸記念館、2012年8月29日
    7. 有光晃二、「UV硬化の基礎と硬化測定技術」、㈱日本テクノセンター主催、小田急第一生命ビル22階、2012年10月2日
    8. 有光晃二、「光潜在性チオールおよび光塩基発生剤の開発とUV硬化材料への応用」、電気・電子材料技術セミナーInsulation 2012、亀戸文化センター、2012年11月29日
    9. 有光晃二、「光開始剤の基礎と感光性樹脂の反応メカニズムおよび高感度化の手法」、R&D支援センター主催、タイム24ビル（東京・江東区）、2012年12月14日
2013
    1. 有光晃二、「感光性ポリマーの設計・不良対策と透明絶縁膜への応用」、㈱&Tech主催、東京中央区立産業会館、2013年1月29日
    2. 有光晃二、「UV硬化樹脂の反応メカニズムと開始剤の設計、硬化不良対策」、㈱情報機構　主催、きゅりあん（品川区大井町）、2013年4月19日
    3. 有光晃二、「UV硬化樹脂の基礎・応用と硬化不良対策」、㈱電子ジャーナル　主催、連合会館（東京・御茶ノ水）、2013年5月13日
    4. 有光晃二、「フォトポリマーの材料設計」、フォトポリマー講習会、フォトポリマー懇話会主催、東京理科大学森戸記念館、2013年8月28日
    5. 有光晃二、「UV硬化樹脂の反応メカニズムと硬化不良対策」、㈱日本テクノセンター主催、小田急第一生命ビル22階、2013年10月8日
    6. 有光晃二、「光酸・塩基発生反応とその増幅」、ラドテック研究会勉強会、飯田橋レインボービル会議室、2013年11月8日
    7. 有光晃二、「光開始剤の基礎と感光性樹脂の反応メカニズムおよび高感度化の手法」、㈱R&D支援センター主催、商工情報センター　カメリアプラザ、2013年12月10日
2014
    1. 有光晃二、「光潜在性チオールの開発とUV硬化材料への応用」、技術情報協会、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2014年2月27日
    2. 有光晃二、「UV硬化樹脂の基礎・応用と硬化不良対策」、㈱電子ジャーナル　主催、連合会館（東京・御茶ノ水）、2014年5月19日
    3. 有光晃二、「光クリックケミストリーの基礎とUV硬化への応用」、第204回フォトポリマー懇話会例会、東京理科大学森戸記念館、2014年6月12日
    4. 有光晃二、「＜トラブルに打ち勝つ＞UV硬化技術の基礎固め－光開始剤、硬化機構の徹底理解－」、㈱情報機構　主催、江東区産業会館、2014年8月27日
    5. 有光晃二、「感光性ポリマーの基礎と光開始剤の利用法およびトラブル対策」、㈱&Tech主催、京華スクエア（東京・中央区）、2014年10月27日
    6. 有光晃二、「光重合開始剤・光重合触媒の作用メカニズム・選択方法および影部分の硬化不良対策」、㈱R&D支援センター主催、江東区産業会館、2014年12月22日
2015
    1. 有光晃二、「低温硬化の効能を有するエポキシ樹脂の光硬化について」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2015年6月29日
2016
    1. 有光晃二、「エポキシ樹脂の構造、硬化メカニズムの概要」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2016年3月22日
    2. 有光晃二、「エポキシ樹脂のUV硬化技術」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2016年7月5日
2017
    1. 有光晃二、「エポキシ樹脂の構造、硬化メカニズムの概要」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2017年2月10日
    2. 有光晃二、「エポキシ樹脂の構造、硬化メカニズムの概要」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2017年3月7日
    3. 有光晃二、「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法」、AndTech主催、東京中央区立産業会館、2017年7月28日
    4. 有光晃二、「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2017年11月29日
2018
    1. 有光晃二、「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法」、シーエムシー出版主催、FORUM会場（東京・神田）、2018年1月23日
    2. 有光晃二、「分子増幅を駆使した影部分のUV硬化」、技術情報協会主催、きゅりあん６Ｆ大会議場（東京・大井町）、2018年3月16日
    3. 有光晃二、「UV硬化のメカニズムから開始剤の選び方、影部を中心とした硬化不良対策まで」、情報機構主催、タワーホール船堀（東京・船堀）、2018年4月20日
    4. 有光晃二、「UV硬化の基礎と最新動向」、OPIE’2018、パシフィコ横浜アネックスホール、2018年4月27日
    5. 有光晃二、「光重合の概要、光開始反応とその増幅」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2018年7月23日
    6. 有光晃二、「エポキシ樹脂の構造、硬化メカニズムの概要」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2018年10月2日
    7. 有光晃二、「感光性ポリマーの材料設計と高感度化手法」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2018年12月4日
2019
    1. 有光晃二、「光酸・塩基発生反応とその増幅」、ラドテック研究会勉強会、東京理科大学森戸記念館、2019年1月11日
    2. 有光晃二、「光硬化に利用される反応機構と開始剤の種類」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2019年2月27日
    3. 有光晃二、「UV硬化の基礎、硬化不良対策、影部のUV硬化」、CMCリサーチセミナー、東京　ちよだプラットフォームスクウェア、2019年4月22日
    4. 有光晃二、「光反応材料におけるクリック反応とその応用」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2019年5月16日
    5. 有光晃二、「光化学の基礎と応用」、ラドテック研究会勉強会、東京理科大学森戸記念館、2019年6月14日
2020
    1. 有光晃二、「UV硬化の基礎、硬化不良対策、影部のUV硬化」、技術情報協会主催、日幸五反田ビル（東京・五反田）、2020年2月4日
    2. 有光晃二、「光化学の基礎と応用」、ラドテック研究会勉強会（オンライン開催）、2020年7月17日
2021
    1. 有光晃二、「光化学の基礎と応用」、ラドテック研究会勉強会（オンライン開催）、2021年6月11日
2022
    1. 有光晃二、「エポキシ樹脂の光硬化反応について」、“エポキシ樹脂技術に関する基礎講座2022”、エポキシ樹脂技術協会主催（オンライン開催）、2022年6月7日（口頭発表）
    2. 有光晃二、「エポキシ・チオール混合樹脂を用いた柔軟なUV硬化膜の作製と物性評価」、技術情報協会主催、オンライン開催、2022年6月17日
    3. 有光晃二、「光化学の基礎と応用」、ラドテック研究会勉強会（オンライン開催）、2022年6月24日

【一般発表】

｜2022｜2021｜2020｜2019｜2018｜2017｜2016｜2015｜2014｜2013｜2012｜2011｜2010｜2009｜

2009
    1. 樫野智將、有光晃二、「ニトロベンジル型光反応性塩基増殖剤のUVキュアリング材料への応用」、日本化学会第89春季年会（2009）、日本大学理工学部船橋キャンパス、2009年3月29日（口頭発表）
    2. 永井秀樹、有光晃二、「ベンゾイン型光反応性塩基増殖剤の合成と性質」、日本化学会第89春季年会（2009）、日本大学理工学部船橋キャンパス、2009年3月29日（口頭発表）
    3. ベサー　モハマドバドロルハスワン、有光晃二、「酸増殖反応を組み込んだ光硬化性有機－無機ハイブリッド材料の特性」、日本化学会第89春季年会（2009）、日本大学理工学部船橋キャンパス、2009年3月29日（口頭発表）
    4. 遠藤亮介、有光晃二、「365 nm光に感光する光脱炭酸型塩基発生剤の合成と性質」、日本化学会第89春季年会（2009）、日本大学理工学部船橋キャンパス、2009年3月29日（口頭発表）
    5. 吉田有一、有光晃二、「光塩基発生反応を利用した水溶性フォトポリマーの性質」、日本化学会第89春季年会（2009）、日本大学理工学部船橋キャンパス、2009年3月29日（口頭発表）
    6. 【招待講演】有光晃二、「高感度フォトポリマーの開発」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月27日（口頭発表）
    7. 水落龍太、有光晃二、「9‐キサンテニルメチル基を有する光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月27日（ポスター発表）
    8. 荒井碧、有光晃二、「光塩基反応性顔料前駆体を用いた高分子膜中での顔料再生とその応用」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月27日（ポスター発表）
    9. 樫野智將、有光晃二、「多官能光反応性塩基増殖剤の合成と光硬化性有機‐無機ハイブリッド材料への応用」第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月28日（口頭発表）
    10. 永井秀樹、有光晃二、「ベンゾイン型光反応性塩基増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月28日（口頭発表）
    11. 遠藤亮介、有光晃二、「365 nm光に感光する光脱炭酸型塩基発生剤の合成とUVキュアリングへの応用」、第58回高分子学会年次大会、神戸国際会議場・国際展示場、2009年5月28日（口頭発表）
    12. Koji Arimitsu, Ayumu Kushima, Ryosuke Endo, “Novel Photobase Generatros and Their Application to Photopolymers”, 26th International Conference of Photopolymer Science and Technology, July 3, 2009, Chiba University, JAPAN（Oral presentation）
    13. 大栗彩香、有光晃二、「trans-o-クマル酸誘導体を用いたフォトポリマーの感光特性」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    14. 水落龍太、有光晃二、「9‐キサンテニルメチル基を有する光塩基発生剤を用いた光反応性材料の感光特性」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    15. 遠藤亮介、有光晃二、「光脱炭酸型光塩基発生剤のアニオン/ラジカルUV硬化系への応用」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    16. 永井秀樹、有光晃二、「ベンゾイン型光反応性塩基増殖剤を含むフォトポリマーの感光特性」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    17. 荒井碧、有光晃二、「光塩基反応性色素を用いた高分子膜中での塩基拡散挙動の観察」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    18. 樫野智將、有光晃二、「光反応性塩基増殖剤を有する環状オリゴシロキサンの合成とUV硬化材料への応用」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    19. 樫野智將、有光晃二、「増殖的にイミダゾールを発生する新規光塩基発生剤の合成とフォトポリマーへの応用」、第58回高分子討論会、熊本大学、2009年9月18日（ポスター発表）
    20. べサーモハマドバドロルハスワン、有光晃二、「酸増殖反応を組み込んだUVカチオン/ラジカル硬化材料の特性」、2009年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパスセミナーハウス、2009年12月5日（ポスター発表）
    21. 福住高則、有光晃二、松川公洋、「フッ素を含む潜在性塩基発生剤の合成とUV硬化材料への応用」、2009年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパスセミナーハウス、2009年12月5日（ポスター発表）
    22. Koji Arimitsu, “Application of Base Amplifiers to Photoreactive Materials Utilizing Base-catalyzed Reactions”, 11th Pacific Polymer Conference 2009 (PPC11), December 6-10, 2009, Cairns Convention Centre, Cairns, Australia (Oral presentation).
2010
    1. Koji Arimitsu, “Photochemical Generation of Superbases and Its Application to Photoreactive Materials”, RadTech UV&EB 2010 Technolgy Expo and Conference, May 24, 2010, Baltimore Convention Center, Baltimore, Maryland (Oral presentation)
    2. 大栗彩香、有光晃二、「365 nm光に感光する光環化型塩基発生剤の合成とフォトポリマーへの応用」、第59回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2010年5月27日（ポスター発表）
    3. 柳正義、有光晃二、「有機強塩基を発生する新規光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第59回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2010年5月27日（ポスター発表）
    4. 荒井碧、有光晃二、「塩基反応性色素を用いたフォトポリマー膜中における塩基拡散挙動の観察」、第59回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2010年5月27日（ポスター発表）
    5. 角井健、有光晃二、「スピロピランを有する光応答性薄膜の作製と光による濡れ性変化の増幅」、第59回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2010年5月28日（ポスター発表）
    6. Koji Arimitsu, Ryosuke Endo, “Photochemical Generation of Superbases and Its Application to Photoreactive Materilas”, The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology, June 25, 2010, University Convention Hall, Chiba University, Chiba, Japan (Oral presentation)
    7. 有光晃二、遠藤亮介、「光による超塩基発生反応とアニオンUV硬化への応用」、第59回高分子討論会、北海道大学高等教育機能開発総合センター、2010年9月15日（口頭発表）
    8. 松井創、有光晃二、「シリカ微粒子を含む反応性ポリマーの体積収縮を利用した粗さを有する光応答性膜表面の作製」、第59回高分子討論会、北海道大学高等教育機能開発総合センター、2010年9月16日（ポスター発表）
    9. 國澤由佳、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「光により連鎖的に塩基を発生する新規ポリマー微粒子の調製と光反応性材料への応用」、第59回高分子討論会、北海道大学高等教育機能開発総合センター、2010年9月16日（ポスター発表）
    10. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa, “Acid Proliferation Reaction for Sensitivity Enhancement of EUV Resists”, 2010 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, October 17-20, 2010, Kobe, Japan (Poster presentation)
    11. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa, “Enhancement of Sensitivity by Acid Proliferaqtion Reaction in EB and EUV Resists”, 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2010), November 11, 2010, Rihga Royal Hotel Kokura, Fukuoka, Janan (Poster presentation)
    12. 【依頼講演】有光晃二、「高感度アニオンUV硬化材料の創製」、第9回ものづくり・先端計測科学研究部門シンポジウム、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2010年12月3日（口頭発表）
    13. 今関卓、有光晃二、「アリール酢酸の光脱炭酸反応を利用した光塩基発生反応とその応用」、2010年度材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2010年12月4日（ポスター発表）
    14. Masayoshi Yanagi, Koji Arimitsu, “Synthesis of Novel Photobase Generators to Generate Strong Bases and Their Application to Photoreactive Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    15. Masaru Imazeki, Koji Arimitsu, “Photobase-generating Reactions of Carboxylates Derived From Arylacetic Acid and a Base and Their Application to Photoreactive Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    16. Hiroaki Koiwa, Koji Arimitsu, “Development of Novel Water-soluble Photopolymers Sensitized with Water-soluble Photobase Generators”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    17. Mizuochi Ryuta, Koji Arimitsu, “Synthesis of Photobase Generators with 9-Xanthenylmethyl Groups and Their Application to Photoreactive Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    18. Itaru Kondo, Koji Arimitsu, Hikaru Imamura, “Synthesis of Thermal Acid Generators (TAGs) and Their Application to Thermal Curing Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    19. Koji Arimitsu, Ryosuke Endo, “Application of Photochemical Generation of Superbases to Photoreactive Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    20. Kyoko Nishidono, Koji Arimitsu, “Synthesis of Novel Photoreactive Acid Amplifiers and Their Application to Chemically Amplified Photoresists”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    21. Ayaka Oguri, Koji Arimitsu, “Photobase Generators Based on Photocyclization Reactions and Their Application to Photoreactive Materials”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    22. Midori Arai, Koji Arimitsu, “Photobase-catalyzed Pigmentation of Latent Pigments for Monitoring the Migration of Bases in Polymer Films”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    23. Daiki Ishii, Koji Arimitsu, “Preparation of Novel Water-soluble Acid Amplifiers and Their Application to Water-soluble Chemically Amplified Photoresists”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    24. Ken Sumii, Koji Arimitsu, “Preparation of Photorespnsive Films with Spiropyran Units to Lead to Amplification of Photoinduced Wettability Change”, PACIFICHEM 2010, December 17, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
    25. Yuka Kunisawa, Koji Arimitsu, Yasuyuki Yamada, Takeshi Wakiya, “Preparation of Novel Polymer Particles as Photolatent Multifunctional Amines and Their Application to Curing Materials”, PACIFICHEM 2010, December 18, 2010, Hawaii Convention Center, Honolulu, Hawaii, USA (Poster presentation)
2011
    1. Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa, “Acid Proliferaqtion to Improve the Sensitivity of EUV Resists”, SPIE Advanced Lithography 2011, March 2, 2011, San Jose Convention Center, San Jose, California, USA (Poster presentation)
    2. 近藤格、有光晃二、「熱潜在性酸発生剤の合成と硬化性樹脂への応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月25日（ポスター発表）
    3. 三角忠史、有光晃二、松川公洋、「含フッ素塩基発生剤の合成と撥水性UV硬化材料への応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月25日（口頭発表）
    4. 松井創、有光晃二、「反応性ポリマーの体積収縮を利用した粗さを有する光応答性有機－無機ハイブリッド薄膜の作製」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月25日（口頭発表）
    5. 石井大貴、有光晃二、「水溶性酸増殖剤の調製と微細加工への応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月26日（口頭発表）
    6. 小岩啓明、長谷卓也、有光晃二、「新規光塩基発生剤を用いた水溶性フォトポリマーの開発」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月26日（口頭発表）
    7. 伊田孟倫、有光晃二、「有機強塩基を発生する新規な光環化型塩基発生剤とフォトポリマーへの応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月26日（口頭発表）
    8. 布施佐和子、樫野智將、有光晃二、「イミダゾール類を連鎖的に発生する光反応性塩基増殖剤の合成と応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月26日（口頭発表）
    9. 波多朝仁、永井秀樹、有光晃二、「連鎖的な有機強塩基の発生反応と光反応性材料への応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月26日（口頭発表）
    10. 國澤由佳、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「光反応性塩基増殖ポリマー微粒子の調製と光反応性材料への応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月27日（口頭発表）
    11. 川浪敬太、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「酸増殖ポリマー微粒子の調製と水系フォトポリマーへの応用」、第60回高分子学会年次大会、大阪国際会議場、2011年5月27日（口頭発表）
    12. Koji Arimitsu “Photochemical Generation of Strong Bases and Its Application to Anionic UV-Curing”, RadTech Asia 2011, June 22, 2011, Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan (Oral presentation)
    13. 松井創、有光晃二、「粗さを有する光応答性有機－無機ハイブリッド薄膜の作製と光による濡れ性の制御」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月28日（ポスター発表）
    14. 波多朝仁、有光晃二、「有機強塩基の増殖反応と光反応性材料への応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月29日（口頭発表）
    15. 三角忠史、有光晃二、松川公洋、「含フッ素塩基発生剤を用いた撥水性アニオンUV硬化材料の特性」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月29日（口頭発表）
    16. 川浪敬太、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「光分散重合を用いた酸増殖ポリマー微粒子の調製と水系光反応性材料への応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月29日（口頭発表）
    17. 吉澤篤太郎、有光晃二、榎本一之、山本洋揮、田川精一、「含フッ素酸増殖剤の合成と化学増幅レジストへの応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    18. 西殿恭子、有光晃二、「有機強酸を増殖する新規なケタール型酸増殖剤の合成と化学増幅レジストへの応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    19. 米倉元気、有光晃二、「新規酸増殖ポリマーの合成とレジスト材料への応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    20. 石井大貴、有光晃二、「水溶性酸増殖剤の調製と水溶性化学増幅レジストへの応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    21. 伊田孟倫、有光晃二、「新規な光環化型の有機強塩基発生剤と光反応性材料への応用」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    22. 榎本一之、有光晃二、吉澤篤太郎、山本洋揮、大島明博、古澤孝弘、田川精一、「EUVレジスト用ピナンジオール型酸増殖剤のパルスラジオリシス」、第60回高分子討論会、岡山大学津島キャンパス、2011年9月30日（ポスター発表）
    23. 榎本一之、有光晃二、吉澤篤太郎、山本洋揮、大島明博、古澤孝弘、田川精一、「EUVレジスト用酸増殖剤のパルスラジオリシス」、第54回放射線化学討論会、大阪大学産業科学研究所、2011年9月30日（口頭発表）
    24. 相川翔平、松田渉、有光晃二、大森隆司、福喜多祐子、手塚洋二、松村充敏、鳥越幹二郎、酒井健一、坂本一民、阿部正彦、酒井秀樹、「桂皮酸誘導体を原料とする新規光分解性界面活性剤の開発」、日本油化学会フレッシュマンサミットTOKYO、東京理科大学森戸記念館、2011年10月11日（口頭発表）
    25. 寺田究、有光晃二、「酸増殖剤を含むノボラック樹脂系レジストの感光特性」、2011年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパス、2011年12月3日（ポスター発表）
    26. 井田恵太、遠藤亮介、柳正義、有光晃二、「有機強塩基を発生する光脱炭酸型塩基発生剤のアニオンＵＶ硬化への応用」、2011年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパス、2011年12月3日（ポスター発表）
    27. 栗栖啓介、有光晃二、「光脱炭酸型塩基発生剤の光アニオン重合への応用」、2011年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田キャンパス、2011年12月3日（ポスター発表）
2012
    1. 山下哲、角井健、有光晃二、「スピロピランを有する粗い高分子膜表面を用いた濡れ性の光制御」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    2. 山本亮輔、荒井碧、有光晃二、「新規な塩基反応性インジゴ前駆体の合成と応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    3. 寺田究、有光晃二、「酸増殖剤を用いたノボラックレジストの感光特性」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    4. 吉澤篤太郎、有光晃二、「新規な含フッ素酸増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    5. 米倉元気、有光晃二、「新規酸増殖レジストの感光特性」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    6. 井田恵太、遠藤亮介、柳正義、有光晃二、「光強塩基発生反応を用いたオキセタン樹脂のアニオンUV硬化」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    7. 福田健、有光晃二、「新規な光脱炭酸型塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    8. 伊田孟倫、有光晃二、「光環化反応を利用した有機強塩基発生剤のUV硬化への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    9. 石井拓、大栗彩香、有光晃二、「新規光環化型チオール発生剤の合成と応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    10. 北村大志、水落龍太、有光晃二、「複素環を有する新規塩基増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    11. 波多朝仁、有光晃二、「有機強塩基増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    12. 飯島大貴、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「潜在性塩基発生無機微粒子の調製とUV硬化材料への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    13. 布施佐和子、有光晃二、工藤健二、小野裕之、「熱潜在性イミダゾール発生剤の合成と熱硬化性樹脂への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    14. 須山洋平、有光晃二、「熱潜在性アミン発生剤の合成と熱硬化性樹脂への応用」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月29日（ポスター発表）
    15. 川浪敬太、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「酸増殖ポリマー微粒子を用いた新規な光反応性材料の感光特性」、第61回高分子学会年次大会、パシフィコ横浜、2012年5月30日（ポスター発表）
    16. 飯島大貴、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「光塩基発生/塩基増殖無機微粒子の調製とUV硬化材料への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月19日（口頭発表）
    17. 山本亮輔、有光晃二、「顔料を微粒子分散したアニオンUV硬化系の開発」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（ポスター発表）
    18. 山下哲、有光晃二、「スピロピランを有する粗い高分子膜表面を用いた濡れ性変化の増幅」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（ポスター発表）
    19. 川浪敬太、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「酸増殖ポリマー微粒子を用いた高感度光反応性材料の構築」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（口頭発表）
    20. 寺田究、有光晃二、「超強酸を増殖する酸増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（口頭発表）
    21. 石井拓、有光晃二、「光潜在性チオールの合成とチオール/エンUV硬化材料への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（口頭発表）
    22. 伊田孟倫、有光晃二、工藤健二、竹下敬祐、小野裕之、「光環化型の有機強塩基発生剤を用いたエピスルフィド樹脂のアニオンUV硬化」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（口頭発表）
    23. 波多朝仁、有光晃二、「強塩基増殖剤を利用した光反応性材料の感光特性」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月20日（口頭発表）
    24. 布施佐和子、有光晃二、工藤健二、小野裕之、「熱潜在性硬化剤としてのイミダゾール誘導体の合成と熱硬化樹脂への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    25. 須山洋平、有光晃二、「熱潜在性塩基発生剤の熱硬化性樹脂への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    26. 福田健、有光晃二、酒井信彦、「新規な光脱炭酸型塩基発生剤を用いたアニオンUV硬化材料の特性」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    27. 栗栖啓介、有光晃二、「光脱炭酸型強塩基発生剤の感光性ポリイミドへの応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    28. 北村大志、水落龍太、有光晃二、酒井信彦、「複素環を有する新規塩基増殖剤を用いた光反応性材料の感光特性」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    29. 吉澤篤太郎、有光晃二、「含フッ素酸増殖剤の合成とカチオンUV硬化材料への応用」、第61回高分子討論会、名古屋工業大学、2012年9月21日（ポスター発表）
    30. 川浪敬太、有光晃二、山田恭幸、脇屋武司、「連鎖的に有機強酸を発生するポリマー微粒子の調製と光反応性材料への応用」、第17回ミクロスフェア討論会、東北大学青葉台キャンパス、2012年11月9日（口頭発表）
    31. 平井美穂、有光晃二、「光塩基発生反応を用いた太陽電池用酸バリア膜の特性」、2012年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2012年12月8日（ポスター発表）
    32. 平井美穂、有光晃二、「側鎖に脂肪族アミンを発生する光塩基発生高分子を用いた太陽電池用酸バリア膜の特性」、2012年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2012年12月8日（ポスター発表）
    33. 相川翔平、松田渉、有光晃二、松村充敏、遠藤健司、鳥越幹二郎、酒井健一、坂本一民、阿部正彦、酒井秀樹、「新規光分解性界面活性剤の合成及び光による界面物性制御」、2012年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2012年12月8日（ポスター発表）
    34. Taku Ishii, Koji Arimitsu, “Synthesis of photo-latent thiols and their application to thiol/ene UV-curing materials”, The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012), December 12, 2012, Kobe Convention Center, Japan (Poster presentation)
    35. Kiwamu Terada, Koji Arimitsu, “Synthesis of superacid amplifiers and their application to photoreactive materials”, The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012), December 12, 2012, Kobe Convention Center, Japan (Poster presentation)
    36. Tomonori Ida, Nobuhiko Sakai, Koji Arimitsu, “Application of organic strong base generation based on photocyclization reactions to photoreactive materials”, The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012), December 12, 2012, Kobe Convention Center, Japan (Poster presentation)
    37. Motoki Yonekura, Koji Arimitsu, “Photosensitivity characteristics of novel acid-amplifying resists”, The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012), December 12, 2012, Kobe Convention Center, Japan (Poster presentation)
    38. Daiki Iijima, Koji Arimitsu, Yasuyuki Yamada, Takeshi Wakiya, “Preparation of inorganic particles modified with photobase-generating/base-ampliying groups and their application to UV-curing materials”, The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012), December 12, 2012, Kobe Convention Center, Japan (Poster presentation)
2013
    1. 飯島大貴、有光晃二、「塩基増殖型ジルコニア粒子の調製とUV硬化材料への応用」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月29日（ポスター発表）
    2. 関皓平、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「ポリマーの熱分解を利用した無機微粒子表面へのポリマーグラフト」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月29日（ポスター発表）
    3. 天野翔太、有光晃二、「酸増殖マイクロカプセルの調製と光反応性材料への応用」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月30日（ポスター発表）
    4. 熊沢優音、有光晃二、「塩基増殖マイクロカプセルの調製と光反応性材料への応用」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月30日（ポスター発表）
    5. 佐藤友里、有光晃二、「ニトロベンジル基を有する光潜在性チオールの合成と光反応性材料への応用」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月30日（ポスター発表）
    6. 小宮健、有光晃二、「アゾベンゼンを有する粗い高分子膜表面の作製と濡れ性の光制御」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月30日（ポスター発表）
    7. 石井拓、有光晃二、「光潜在性チオールを用いたチオール/エンUV硬化材料の硬化特性」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月31日（口頭発表）
    8. 福田健、有光晃二、酒井信彦、「365 nm光に感光する光脱炭酸型塩基発生剤を用いたアニオンUV硬化材料の感光特性」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月31日（口頭発表）
    9. 北村大志、有光晃二、酒井信彦、「汎用の有機溶媒に溶解する新規塩基増殖剤の合成と光反応性材料への応用」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月31日（口頭発表）
    10. 山本亮輔、有光晃二、「顔料微粒子を分散させたアニオンUV硬化材料の特性」、第62回高分子学会年次大会、京都国際会館、2013年5月31日（口頭発表）
    11. 熊沢優音、有光晃二、「塩基増殖マイクロカプセルを用いた水溶性エポキシ樹脂のUV硬化」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    12. 山本亮輔、有光晃二、「潜在性顔料を含むエピスルフィド樹脂のアニオンUV硬化特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    13. 北村大志、有光晃二、酒井信彦、「高い溶解性を有する新規塩基増殖剤を用いた光反応性材料の感光特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    14. 丸山裕椰、有光晃二、「高感度な新規光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    15. 天野翔太、有光晃二、「酸増殖マイクロカプセルを用いた光反応性材料の特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    16. 河原慎、有光晃二、「アウトガスを発生しない新規塩基増殖剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    17. 福田健、有光晃二、酒井信彦、「365 nm光に感光する光脱炭酸型塩基発生剤を用いた光反応性材料の特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    18. 小宮健、有光晃二、「アゾベンゼンを有する粗い高分子膜の光による濡れ性変化の増幅」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    19. 佐藤友理、有光晃二、「ニトロベンジル基を有する光潜在性チオールを用いたUV硬化材料の特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    20. 石井拓、有光晃二、「光分解物が高溶解性を示す光潜在性チオールの合成とチオール/エンUV硬化材料への応用」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    21. 岩崎哲也、寺田究、有光晃二、「超強酸を発生する酸増殖剤を用いた光反応性材料の感光特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月11日（ポスター発表）
    22. 関皓平、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「高分子の平衡重合を利用した無機微粒子の表面改質」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月13日（ポスター発表）
    23. 飯島大貴、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「平衡重合を利用したカーボンナノチューブへのポリマーグラフト」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月13日（ポスター発表）
    24. 飯島大貴、有光晃二、「潜在性塩基発生無機微粒子の調製とそれらを用いたアニオンUV硬化材料の特性」、第62回高分子討論会、金沢大学、2013年9月13日（ポスター発表）
    25. 北村大志、有光晃二、酒井信彦、「高い溶解性を有する新規塩基増殖剤の合成とUV硬化材料への応用」、色材協会創立85周年記念会議、タワーホール船堀、2013年10月25日（ポスター発表）
    26. 山本亮輔、有光晃二、「潜在性顔料を含んだアニオンUV硬化材料の開発」、色材協会創立85周年記念会議、タワーホール船堀、2013年10月25日（ポスター発表）
    27. 石井拓、有光晃二、「光潜在性チオールの合成とチオール/エンUV硬化系への応用」、色材協会創立85周年記念会議、タワーホール船堀、2013年10月25日（ポスター発表）
2014
    1. 石川信広、有光晃二、「核酸塩基の分子間相互作用/光2量化を用いた新規接着材料の開発」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    2. 天野翔太、有光晃二、「光架橋型ポリマーを殻材とした酸増殖マイクロカプセルの特性」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    3. 熊沢優音、有光晃二、「有機溶媒中に高分散する塩基増殖マイクロカプセルの調製とUV硬化への応用」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    4. 山裕椰、有光晃二、「高感度な光塩基発生剤の合成とUV硬化材料への応用」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    5. 友田和貴、工藤健二、有光晃二、「アウトガスを伴わない新規塩基増殖剤の開発と光反応性材料への応用」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    6. 岩崎哲也、有光晃二、「種々の超強酸を増殖する酸増殖剤を用いたカチオンUV硬化材料の特性」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（ポスター発表）
    7. 河原慎、有光晃二、「エポキシ樹脂との反応により塩基を増殖する新規アニオンUV硬化材料の開発」、第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月28日（口頭発表）
    8. 立花優香、有光晃二、「酸化チタンを含むエポキシ樹脂のUV硬化とセルフクリーニング特性」第63回高分子学会年次大会、名古屋国際会議場、2014年5月29日（ポスター発表）
    9. 石川信広、有光晃二、古谷昌大、郡司天博、阿部芳首、「ベンゾイン骨格を有する光塩基発生剤の開発と光反応性材料への応用」、第31回フォトポリマーコンファレンス、千葉大学けやき会館、2014年7月11日（口頭発表）
    10. 丸山裕椰、古谷昌大、有光晃二、「種々のジアミンを発生する光塩基発生剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    11. 友田和貴、工藤健二、古谷昌大、有光晃二、「ガス発生を伴わない塩基増殖剤を用いた光反応性材料の感光特性評価」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    12. 窪寺俊、古谷昌大、有光晃二、「光酸発生反応を利用した導電性高分子の乾式光パターンニング」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    13. 高橋謙太朗、古谷昌大、有光晃二、「種々の酸を発生する酸増殖剤の開発とEUVリソグラフィーへの応用」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    14. 関皓平、古谷昌大、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「高分子の熱分解を利用した無機微粒子の表面改質」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    15. 小宮健、古谷昌大、有光晃二、「アゾベンゼンを有する粗い高分子膜表面における濡れ性の光スイッチング」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    16. 立花優香、古谷昌大、有光晃二、「酸化チタンを含むシロキサン‐エポキシ樹脂のUV硬化とセルフクリーニング材料への応用」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月24日（口頭発表）
    17. 田上勝大、古谷昌大、有光晃二、竹本香織、「新規熱酸発生剤を用いた光誘起フロンタル重合」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月25日（口頭発表）
    18. 永井英理、古谷昌大、有光晃二、「シクロカーボナート樹脂の合成とそのアニオンUV硬化材料への応用」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月25日（口頭発表）
    19. 河原慎、古谷昌大、有光晃二、「新規非脱炭酸型塩基増殖剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月25日（口頭発表）
    20. 天野翔太、古谷昌大、有光晃二、「酸増殖マイクロカプセルの特性に対して殻剤ポリマーの化学構造が与える効果」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月25日（口頭発表）
    21. 熊沢優音、古谷昌大、有光晃二、「塩基増殖剤マイクロカプセルを用いた汎用エポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月25日（口頭発表）
    22. 石川信広、古谷昌大、有光晃二、「チミン‐アデニン相互作用とチミンの光2量化を利用した新規接着ポリマー」、第63回高分子討論会、長崎大学文教キャンパス、2014年9月26日（口頭発表）
2015
    1. 佐藤慎弥、古谷昌大、有光晃二、「システイン誘導体を用いた機能性接着剤の開発」、高分子学会千葉地域活動若手セミナー32nd、千葉工業大学、2015年3月9日（ポスター発表）
    2. 永井英理、阪内敦子、古谷昌大、有光晃二、「6員環シクロカーボナート樹脂を用いたアニオンUV硬化」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月27日（口頭発表）
    3. 下田将久、小山幸恵、古谷昌大、有光晃二、「塩基増殖剤を用いたエポキシ樹脂の厚膜アニオンUV硬化」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月27日（口頭発表）
    4. 田上勝大、竹本香織、古谷昌大、有光晃二、「種々の超強酸を発生する熱酸発生剤を用いた光誘起フロンタル重合」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月27日（口頭発表）
    5. 窪寺俊、古谷昌大、有光晃二、「含フッ素酸増殖剤を用いた導電性高分子の乾式光パターニング」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月27日（口頭発表）
    6. 杉岡早織、古谷昌大、有光晃二、渡部功治、「塩基増殖基を有する鱗片状シリカを分散させたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月28日（口頭発表）
    7. 浅井陸、古谷昌大、有光晃二、「有機･無機複合材料のアニオンUV硬化を利用した無機パターンの作製」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月28日（口頭発表）
    8. 松谷浩暉、古谷昌大、有光晃二、「Grubbs触媒を内包したマイクロカプセルを用いた開環メタセシス重合」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月28日（口頭発表）
    9. 友田和貴、工藤健二、古谷昌大、有光晃二、「イミダゾールを発生する液状熱潜在性硬化剤の開発と熱硬化樹脂への応用」、第64回高分子学会年次大会、札幌コンベンションセンター、2015年5月29日（口頭発表）
    10. Koji Arimitsu, Yuka Tachibana, Masahiro Furutani, “Self-cleaning properties of anionic UV cured siloxane-epoxy resins containing TiO2 particles”, First International Symposium on Recent Progress of Energy and Environmental Photocatalysis (Photocatalysis 1), September 3, 2015, Tokyo University of Science, Noda, Chiba, Japan (Poster presentation)
    11. 田上勝大，竹本香織，古谷昌大，有光晃二、「光誘起フロンタル重合に向けた新規熱超強酸発生剤の開発」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月15日（口頭発表）
    12. 浅井陸，古谷昌大，有光晃二、「光塩基発生剤を用いた有機‐無機複合材料の光パターニング」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月15日（口頭発表）
    13. 下田将久，小山幸恵，古谷昌大，有光晃二、「エポキシ樹脂系厚膜のアニオンUV硬化」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月15日（口頭発表）
    14. 永井英理，阪内敦子，古谷昌大，有光晃二、「シクロカーボナート樹脂を用いたアニオンUV硬化材料の特性評価」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月15日（口頭発表）
    15. 杉岡早織，古谷昌大，有光晃二，渡部功治、「塩基増殖基を有する鱗片状シリカを分散させたアニオンUV硬化膜の特性」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月15日（口頭発表）
    16. 松谷浩暉，古谷昌大，有光晃二、「Grubbs触媒内包マイクロカプセルの熱潜在性評価」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月16日（口頭発表）
    17. 友田和貴，工藤健二，古谷昌大，有光晃二、「一液型熱硬化性樹脂に利用可能なイミダゾール系液状熱潜在性硬化剤の開発」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月16日（口頭発表）
    18. 工藤健二，古谷昌大，有光晃二、「分子内水素結合を有するイミダゾール誘導体の合成と熱潜在性硬化剤への応用」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月16日（口頭発表）
    19. 岡安克起，郭揚眉，三輪崇夫，古谷昌大，有光晃二、「光塩基発生剤を用いた感光性ポリイミドのネガ型パターニング」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月16日（口頭発表）
    20. 石川信広，古谷昌大，有光晃二、「チミン‐アデニンの分子間相互作用を用いた粘着剤の開発」、第64回高分子討論会、東北大学、2015年9月17日（口頭発表）
    21. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Cysteine derived cross-linker for anionic UV curing of epoxy resins”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 16, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    22. Kentaro Takahashi, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Novel acid amplifiers for UV or EUV lithography with high photosensitivity and resolution”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 16, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    23. Shun Kubodera, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Dry process photopatterning of a conducting polymer using photoinduced acid proliferation reactions”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 16, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    24. Yuka Tachibana, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Preparation of anionic UV curing films containing dispersed titania particles and their application to self-cleaning materials”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 17, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    25. Saori Sugioka, Koji Watanabe, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Preparation of anionic UV-cured coating films including scaly silica modified with base-amplifying groups”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 17, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    26. Kenji Kudo, Sawako Fuse, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Synthesis of novel liquid-type latent curing agents to generate imidazoles and their application to thermosetting resins”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Oral presentation)
    27. Taiki Hashima, Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Resist materials using base proliferation reactions”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    28. Satoshi Yoneda, Tomonori Ida, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Fabrication of positive-tone photopatterns by using photocyclization-type photobase generators”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    29. Nobuhisa Shimoda, Yukie Koyama, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Anionic UV curing of thick epoxy resin films by base amplifiers”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    30. Katsuki Okayasu, Yangmei Guo, Takao Miwa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photosensitive polyimide material containing photobase generator and fabrication of negative-tone micropatterns”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    31. Eri Nagai, Atsuko Sakauchi, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Application to anionic UV curing of six-membered cyclic carbonate resins”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    32. Ayaru Kakinuma, Ichiro. Hazeyama, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Micro-photopatterning of trapped cycloolefin polymer via thiol-ene reactions”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 18, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    33. Atsushi Asai, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Fabrication of organic/inorganic composite micropatterns by anionic UV curing process”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 19, 2015, Hawaii Convention Center (Poster presentation)
    34. Nobuhiro Ishikawa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Adhesive materials utilizing molecular interaction of thymine-adenine and photodimerization of thymine”, PACIFICHEM 2015, Honolulu, Hawaii, December 19, 2015, Hawaii Convention Center (Oral presentation)
2016
    1. 浅井陸，古谷昌大，有光晃二、「光発生した塩基による室温下での有機‐無機複合パターンの作製」、精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム　9th、2016年3月4日、兵庫県立大学（ポスター発表）
    2. 古谷昌大，佐藤慎弥，有光晃二、「架橋剤としてシステイン誘導体を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム　9th、2016年3月4日、兵庫県立大学（ポスター発表）
    3. 仲本和紀，古谷昌大，有光晃二、「光強塩基発生剤を用いたレドックス重合によるUV硬化」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（口頭発表）
    4. 工藤健二，古谷昌大，有光晃二、「イミダゾベンゾキサジン－５－オン誘導体の合成と熱潜在性硬化剤への応用」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（口頭発表）
    5. 下田将久，古谷昌大，有光晃二、「カスケード反応を利用したエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（口頭発表）
    6. 松谷浩暉，古谷昌大，有光晃二、「様々な温度で崩壊するGrubbs触媒内包マイクロカプセルの調製」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（口頭発表）
    7. 髙橋春花，古谷昌大，脇屋武司、有光晃二、「光重合による機能性マイクロカプセルの調製」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（口頭発表）
    8. 丹下一騎，古谷昌大，有光晃二、「ポリマーブレンド相分離構造の光誘起自己現像を用いた粗い膜表面の作製と濡れ性制御への応用」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（ポスター発表）
    9. 杉岡早織，古谷昌大，尾添弘章，渡部功治，有光晃二、「塩基増殖基を有するリンペン状ガラスを分散配向させたエポキシ樹脂UV 硬化膜の作製」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（ポスター発表）
    10. 浅井陸，古谷昌大，有光晃二、「有機-無機複合材料のアニオンUV 硬化を利用した3 次元造形物の作製」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（ポスター発表）
    11. 雪岡諒，古谷昌大，有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「ニトロキシドの熱解離を利用した無機微粒子のポリマーグラフト」、第65回高分子学会年次大会、2016年5月 26日、神戸国際会議場･展示場（ポスター発表）
    12. 岩田瑛里香，古谷昌大，有光晃二、「365 nm光に感光する光潜在性チオールの合成と光反応性材料への応用」、第65回高分子討論会、2016年9月 14日、神奈川大学横浜キャンパス（ポスター発表）
    13. 丹下一騎，古谷昌大，有光晃二、「アゾベンゼン部位の光異性化による濡れ性変化を増幅する粗い膜表面の光形成」、第65回高分子討論会、2016年9月 14日、神奈川大学横浜キャンパス（ポスター発表）
    14. 松谷浩暉，古谷昌大，有光晃二、「Grubbs触媒内包マイクロカプセルの調製と熱硬化材料への応用」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（口頭発表）
    15. 有光晃二，下田将久，古谷昌大、「カスケード反応によるエポキシ樹脂の高感度アニオンUV硬化」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（口頭発表）
    16. 仲本和紀，古谷昌大，有光晃二、「塩基増殖反応を利用したレドックス重合によるUV硬化」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（口頭発表）
    17. 大洞圭次郎，古谷昌大，有光晃二、「光環化反応を用いた新規な光塩基発生剤の開発と光反応性材料への応用」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（口頭発表）
    18. 髙橋春花，古谷昌大，脇屋武司，有光晃二、「光重合によるマイクロカプセルの調製と機能評価」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（口頭発表）
    19. 雪岡諒，古谷昌大，有光晃二，吉谷博司，野里省二，中壽賀章、「末端ニトロキシドを有するポリマーを用いた無機微粒子の化学修飾」、第65回高分子討論会、2016年9月 15日、神奈川大学横浜キャンパス（ポスター発表）
    20. Koji Arimitsu, “Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency”, RadTech Asia 2016, October 24-27, 2016, Hilton Tokyo Odaiba, Tokyo, Japan.
    21. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Cross-Linking Reagent Derived from Cysteine and Its Application to Anionic UV Curing”, RadTech Asia 2016, October 24-27, 2016, Hilton Tokyo Odaiba, Tokyo, Japan.
2017
    1. 古谷昌大，柿沼斐晃，有光晃二、「含ジスルフィド結合塩基増殖剤の熱解体性光接着剤への応用」、第10回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム、2017年3月 3日、近畿大学（ポスター発表）
    2. 岩田瑛里香，古谷昌大，有光晃二、「光潜在性チオールを用いたアクリレート樹脂のUV硬化」、第10回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム、2017年3月 3日、近畿大学（ポスター発表）
    3. 遠藤馨，古谷昌大，有光晃二、「2-メルカプトピリジル基を架橋部位として持つ高分子硬化膜の作製と性質」、第34回高分子学会千葉地域活動若手セミナー、2017年3月 7日、東京理科大学（ポスター発表）
    4. 大洞圭次郎、古谷昌大、有光晃二、「分子内光環化反応により強塩基を発生する光塩基発生剤を用いた高感度アニオンUV硬化」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    5. 寺田究、古谷昌大、有光晃二、「アミンとラジカルを発生する光塩基発生剤の開発とハードコート材料への応用」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    6. 大城康太、寺田究、古谷昌大、有光晃二、「連鎖的にイミダゾールを発生する連鎖硬化剤を利用した厚膜のアニオンUV硬化」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    7. 秋山京平、古谷昌大、有光晃二、「超強酸を発生する酸増殖剤の合成とカチオンUV硬化への応用」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    8. 岩田瑛里香、古谷昌大、有光晃二、佐藤弘章、辻本篤志、谷口亮輔、「i線によるUV硬化に向けた光潜在性チオールの開発」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    9. 古谷昌大、佐藤慎弥、有光晃二、「システイン誘導体を用いた含金カチオンエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    10. 丹下一騎、古谷昌大、有光晃二、「アゾベンゼン高分子ブレンド系における光誘起相転移および相分離を利用した表面濡れ性の可逆スイッチング」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（口頭発表）
    11. 工藤美希、古谷昌大、有光晃二、「ポリシランの光開裂を利用した化学修飾チタニア微粒子の調製と光機能」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（ポスター発表）
    12. 佐々木彩乃、古谷昌大、有光晃二、「ラジカルおよびアニオンUV硬化を用いた傾斜構造を有する有機－無機複合コーティング膜の作製」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 29日、幕張メッセ（ポスター発表）
    13. Kazuki Nakamoto, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, Akira Nakasuga, “UV Curing of thick films by a free radical photopolymerization system utilizing a redox reaction”, 66th SPSJ Annual Meeting, May 30th., 2017, Makuhari Messe, Chiba, Japan (Oral presentation)
    14. 平賀瑛士郎、古谷昌大、有光晃二、「酸増殖剤とN-置換ポリアニリンを用いた導電性パターンの光作製」、第66回高分子学会年次大会、2017年5月 31日、幕張メッセ（口頭発表）
    15. 寺田究、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を用いた新規なエポキシ樹脂系レジストの感光特性」、第34回フォトポリマーコンファレンス、2017年6月28日、幕張メッセ（口頭発表）
    16. 石﨑雄輝、林昌樹、古谷昌大、有光晃二、「有機過酸化物を光ラジカル開始剤として用いたアクリレート樹脂厚膜パターンの光作製」、第66回高分子討論会、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    17. 大城康太、寺田究、古谷昌大、有光晃二、「連鎖硬化剤のアニオンUV硬化系を利用したエポキシ厚膜の光パターニング」、第66回高分子討論会、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    18. 髙嶋美沙樹、三井康敬、三輪崇夫、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を含むポリヒドロキシイミドの感光特性」、第66回高分子討論会、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    19. 平賀瑛士郎、古谷昌大、有光晃二、「N-置換ポリアニリンの乾式光パターニングにおける酸増殖剤の添加効果」、第66回高分子討論会、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    20. 仲本和紀、古谷昌大、有光晃二、中壽賀章、「バルク体のUV硬化に向けた低温レドックス光重合系の構築」、第66回高分子討論会、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    21. 雪岡諒、古谷昌大、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「種々の分子量を有するニトロキシド末端ポリマーを用いた無機微粒子表面のポリマーグラフト」、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    22. 工藤美希、古谷 昌大、有光 晃二、「ポリシランを表面修飾したチタニア微粒子の調製とセルフクリーニング材料への応用」、2017年9月20日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    23. 古谷昌大、遠藤馨、柿沼斐晃、有光晃二、「ジスルフィド含有ポリマー材料によるUV 接着およびその熱解体」、2017年9月21日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    24. 丹下一騎、古谷昌大、有光晃二、「アゾベンゼン高分子ブレンド膜における光誘起相転移を利用した濡れ性変化の増幅」、2017年9月21日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    25. 丹下一騎、古谷昌大、有光晃二、「アゾベンゼン高分子ブレンド膜における解重合反応を利用した表面粗さの創出および濡れ性増幅」、2017年9月21日、愛媛大学城北キャンパス（ポスター発表）
    26. 寺田 究、古谷昌大、有光晃二、「アミンとラジカルを発生するベンゾイン誘導体を光塩基発生剤として用いたＵＶハードコート材料」、2017年9月22日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    27. 岩田瑛里香、古谷昌大、有光晃二、大當友美子、森谷敏光、伊澤弘行、「チオール/エポキシ混合樹脂のアニオンUV 硬化を用いた接着フィルムの開発」、2017年9月22日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    28. 佐々木彩乃、竹上功起、古谷昌大、有光晃二、「シロキサン樹脂の偏析を利用した傾斜構造を有する有機-無機複合コーティング膜のUV 硬化」、2017年9月22日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    29. 大洞圭次郎、古谷昌大、有光晃二、「強塩基を発生する非イオン型の光塩基発生剤を用いた光反応性材料の特性」、2017年9月22日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    30. 秋山京平、古谷昌大、有光晃二、「超強酸増殖剤によるカチオンUV 硬化材料の高感度化」、2017年9月22日、愛媛大学城北キャンパス（口頭発表）
    31. 大洞圭次郎、古谷昌大、有光晃二、「強塩基を発生する非イオン型光塩基発生剤の開発」、第7回 CSJフェスタ、2017年10月19日、タワーホール船堀（ポスター発表）
    32. 【受賞講演】古谷昌大、佐藤慎弥、須山洋平、山川大智、有光晃二、「アニオンUV硬化に向けた潜在性硬化剤の分子設計」、2017年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2017年12月1日（口頭発表）
    33. 大洞圭次郎、古谷昌大、有光晃二、「分子内光環化反応による第3級アミンの生成と光反応性材料への応用」、2017年材料技術研究協会討論会、東京理科大学野田校舎セミナーハウス、2017年12月2日（ポスター発表）
2018
    1. 【招待】有光晃二、「分子増殖反応を利用した高感度フォトレジストの開発」、電気化学会第85回大会、2018年3月9日、東京理科大学葛飾キャンパス（口頭発表）
    2. 古谷昌大、井出崇、木下忍、堀口雷太、森一郎、坂井和宏、有光晃二、「254 nm光を用いたアクリラートモノマーの光開始剤フリー光重合」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月23日、名古屋国際会議場（口頭発表）
    3. 中本康弘、大村健人、小池信明、古谷昌大、有光晃二、「第三級アミンを発生する光塩基発生剤を開始剤として用いた光アニオン重合」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月23日、名古屋国際会議場（口頭発表）
    4. 佐々木彩乃、竹上功起、古谷昌大、有光晃二、「チオキサントン型光塩基発生剤を用いた傾斜構造をもつ有機‐無機複合コーティング膜の高感度光作製」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月23日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    5. 工藤美希、古谷昌大、有光 晃二、「ポリシラン修飾チタニア微粒子の調製とその光触媒機能評価」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月23日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    6. 髙嶋美沙樹、三井康敬、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を用いた化学修飾ポリヒドロキシイミドのポジ型光パターニング」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    7. 菊地駿、野田国宏、塩田大、古谷昌大、有光晃二、「超強塩基を発生する光塩基発生剤を用いたポリシラン膜の光パターニング」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    8. 秋山京平、古谷昌大、有光晃二、「超強酸増殖剤によるレジスト材料の高感度化」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    9. 湖海結菜、古谷昌大、有光晃二、「メタクリラートの高感度ラジカルUV硬化系の探索」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    10. 竹村健吾、古谷昌大、有光晃二、「可視光吸収を持つ電荷移動錯体を開始剤として用いた光ラジカル重合」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    11. 【招待講演】有光晃二、「カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（口頭発表）
    12. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「分子内光環化反応により発生する第三級アミンを用いたUV硬化膜の作製」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    13. 大城康太、松田智明、古谷昌大、有光晃二、「新規な連鎖硬化剤を利用した厚膜のアニオンUV硬化系の構築」第67回高分子学会年次大会、2018年5月24日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    14. 平賀瑛士郎、古谷昌大、有光晃二、「光酸発生剤と酸増殖剤を含むPEDOT類縁体膜の乾式光パターニング」、第67回高分子学会年次大会、2018年5月25日、名古屋国際会議場（ポスター発表）
    15. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Application of photobase generators liberating radicals as well as bases to hardcoating materials”, 256th ACS National Meeting, August 21, 2018, Boston Convention & Exhibition Center, Boston, USA (Poster presentation, PMSE 499)
    16. Koji Arimitsu, Tomonori Ida, Masahiro Furutani, “Anionic UV curing systems using photochemical generation of organic strong bases”, 256th ACS National Meeting, August 21, 2018, Boston Convention & Exhibition Center, Boston, USA (Poster presentation, PMSE 500)
    17. Masahiro Furutani, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu, “Radical UV-cured materials containing disulfide bonds and their physical properties”, 256th ACS National Meeting, August 21, 2018, Boston Convention & Exhibition Center, Boston, USA (Poster presentation, PMSE 508)
    18. 髙嶋美沙樹、秋田寛哉、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を含む化学修飾ポリヒドロキシイミドの感光特性」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    19. 菊地駿、野田国宏、塩田大、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤から発生する超強塩基によるポリシラン膜の光パターニング」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    20. 平賀瑛士郎、古谷昌大、有光晃二、「ポリスチレンスルホン酸を発生させる酸増殖剤を用いたPEDOT類縁体膜の乾式光パターニング」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    21. 佐々木 彩乃、宗像秀典、古谷昌大、有光 晃二、「ラジカル-アニオンUV硬化により作製可能な傾斜型有機-無機複合コーティング膜」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    22. 工藤 美希・古谷 昌大・有光 晃二、「ポリシランの光開裂を利用したチタニア微粒子へのグラフトと光触媒機能」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    23. 古谷昌大、井出崇、木下忍、堀口雷太、森一郎、坂井和宏、有光晃二、「254 nm単色光照射をトリガーとするアクリラートの光ラジカル重合」、第67回高分子討論会、2018年9月12日、北海道大学（ポスター発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    24. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「分子内光環化反応により強塩基を発生する光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    25. 中本康弘、大村健人、小池信明、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤から発生する第三級アミンによる影部の光アニオン重合」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    26. 竹村健吾、古谷昌大、有光晃二、「電荷移動錯体の可視光吸収により開始されるアクリラートの光ラジカル重合」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    27. 秋山京平、古谷昌大、有光晃二、「超強酸を発生させる熱酸発生剤を用いた種々のエポキシモノマーのカチオン重合」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    28. 湖海結菜、古谷昌大、有光晃二、「連鎖移動反応を組み込んだメタクリラートのラジカルUV硬化」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    29. 畠山寧々、袴田祐介、古谷昌大、有光晃二、「エポキシ樹脂のアニオンUV硬化系へのビスマレイミド樹脂の混合効果」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    30. 大城康太、古谷昌大、有光晃二、「厚膜アニオンUV硬化のためのカスケード式反応系の構築」、第67回高分子討論会、2018年9月13日、北海道大学（口頭発表）（北海道胆振東部地震の影響で開催中止）
    31. Masahiro Furutani, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu, “Relaxation of internal stress in UV-cured materials by using exchange reactions between disulfide bonds”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 6, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Oral presentation)
    32. Eishiro Hiraga, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photopatterning of PEDOT derivatives by using an acid amplifier generating polystryrenesulfonic acid”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 6, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Oral presentation)
    33. Kengo Takemura, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Radical polymerization using charge transfer complexes as a visible light-sensitive initiator”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 7, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Poster presentation)
    34. Yasuhiro Nakamoto, Kento Oomura, Nobuaki Koike, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photo-induced anionic polymerization initiated by photobase generators generating tertiary amines”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 7, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Poster presentation)
    35. Shun Kikuchi, Kunihiro Noda, Dai Shiota, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Fabricating photopatterns of polysilane sensitized with photobase generators generating superbases”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 7, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Poster presentation)
    36. Kouta Ooki, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Construction of anionic UV curing systems for thick films using chain curing agents”, The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 7, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Poster presentation)
    37. Kyohei. Akiyama, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Synthesis of novel acid amplifers generating superacids and their application to cationic UV curing systems” The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018), December 7, 2018, International Conference Center Hiroshima, Hiroshima, Japan. (Poster presentation)
2019
    1. 畠山寧々、袴田祐介、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を含むエポキシ/ビスマレイミド混合樹脂のアニオン UV 硬化特性」、高分子学会精密ネットワークポリマー研究会第１2回若手シンポジウム、2019年3月11日、東京理科大学森戸記念館（ポスター発表P7）
    2. 竹村健吾、古谷昌大、有光晃二、「電荷移動錯体を開始剤として用いる可視光による光ラジカル重合」、高分子学会精密ネットワークポリマー研究会第１2回若手シンポジウム、2019年3月11日、東京理科大学森戸記念館（ポスター発表P8）
    3. 湖海結菜、古谷昌大、有光晃二、「連鎖移動反応性を有するメタクリラートのラジカル UV 硬化特性」、高分子学会精密ネットワークポリマー研究会第１2回若手シンポジウム、2019年3月11日、東京理科大学森戸記念館（ポスター発表P9）
    4. 菊地駿、野田国宏、塩田大、古谷昌大、有光晃二、「超強塩基を発生する光塩基発生剤を含むポリシラン膜のネガ型光パターニング」、高分子学会精密ネットワークポリマー研究会第１2回若手シンポジウム、2019年3月11日、東京理科大学森戸記念館（ポスター発表P19）
    5. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「分子内光環化反応により強塩基を発生する光塩基発生剤を用いた光反応性材料の感光特性」、高分子学会精密ネットワークポリマー研究会第１2回若手シンポジウム、2019年3月11日、東京理科大学森戸記念館（ポスター発表P20）
    6. 湖海結菜、野口宗、古谷昌大、有光晃二、「水素引抜き反応を利用したメタクリラートの効率的なラジカルUV硬化」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月29日、大阪府立国際会議場（口頭発表1H21）
    7. 竹村健吾、古谷昌大、有光晃二、「電荷移動錯体を光開始剤として用いた可視光ラジカル重合」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月29日、大阪府立国際会議場（口頭発表1H22）
    8. 中本康弘、小池信明、大村健人、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたシアノアクリラート膜の影部における光誘起アニオン重合」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H03）
    9. 叶依風、大當友美子、森谷敏光、古谷昌大、有光晃二、「第三級アミンを発生する光塩基発生剤を用いた酸無水物混合エポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H04）
    10. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「脱炭酸を伴わず強塩基とラジカルを発生する光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H05）
    11. 小松原怜真、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤とチオール・エポキシ混合樹脂を用いた柔軟なUV硬化膜の作製」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H08）
    12. 畠山寧々、袴田祐介、福山昇治、古谷昌大、有光晃二、「混合樹脂のアニオンUV硬化における エポキシおよびマレイミド基の反応挙動」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H09）
    13. 菊地駿、野田国宏、塩田大、古谷昌大、有光晃二、「光および熱塩基発生剤を含むポリシラン膜の高強度な光パターン形成」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2H10）
    14. 古谷昌大、中山健太郎、遠藤馨、有光晃二、「2-メルカプトニコチン酸から誘導される架橋剤を用いた光接着剤の開発」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月30日、大阪府立国際会議場（口頭発表2F18）
    15. 原口咲栄子、岩田瑛里香、古谷昌大、有光晃二、「i線光源に対応可能な光潜在性チオールの合成とチオール・エンUV硬化系への応用」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月31日、大阪府立国際会議場（ポスター発表3Pa063）
    16. 鈴木真由、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を用いた多官能イソシアナート/チオール系のアニオンUV硬化」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月31日、大阪府立国際会議場（ポスター発表3Pa064）
    17. 長谷川大騎、雪岡諒、古谷昌大、有光晃二、吉谷博司、野里省二、中壽賀章、「光酸発生剤および酸解重合性ポリマーを用いた無機微粒子へのポリマーグラフト」、第68回高分子学会年次大会、2019年5月31日、大阪府立国際会議場（口頭発表3F11）
    18. 中本康弘、大村健人、大房一樹、古谷昌大、有光晃二、「増感剤を用いた光アニオン重合におけるシアノアクリラート とマロネートモノマーの共重合挙動」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（ポスター発表 1Pa067）
    19. 鈴木真由、古谷昌大、有光晃二、「アニオン UV 硬化における多官能イソシアナートおよびチオ ールの化学構造の影響」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（ポスター発表 1Pb068）
    20. 古谷昌大、中山健太郎、有光晃二、「光接着材料中におけるジピリジルジスルフィド架橋構造の 化学状態」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（ポスター発表 1Pb086）
    21. 長谷川大騎、雪岡諒、古谷昌大、有光 晃二、「光酸発生に続くポリマーの解重合を利用した無機微 粒子へのポリマーグラフト」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1U13）
    22. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「光環化反応により強塩基に変化する新規な光塩基 発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1V15）
    23. 秋山崇文、古谷昌大、有光晃二、「光環化反応により強塩基を遊離する新規な光塩基 発生剤の合成と光反応性材料への応用」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1V16）
    24. 叶依風、大當友美子、森谷敏光、古谷昌大、有光晃二、「様々な酸無水物を併用したエポキシ樹脂のアニオンUV硬化」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1V17）
    25. 竹村健吾、古谷昌大、有光晃二、「可視光重合系における光開始剤としての電荷移動 錯体の調製と評価」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1V18）
    26. 植竹和基、古谷昌大、有光晃二、「光誘起レドックス開始重合系による室温下での影部 UV硬化」、第68回高分子討論会、2019年9月25日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 1V19）
    27. 湖海結菜、野口宗、古谷昌大、有光晃二、「連鎖移動能を持つ架橋剤を用いたメタクリラートのラ ジカルUV硬化」、第68回高分子討論会、2019年9月27日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 3V02）
    28. 小松原怜真、古谷昌大、有光晃二、「チオール・エポキシ混合樹脂と光塩基発生剤を用 いて光作製した柔軟なUV硬化膜の物性評価」、第68回高分子討論会、2019年9月27日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 3V03）
    29. 畠山寧々、袴田祐基、松野秀則、古谷昌大、有光晃二、「温和な条件で光硬化するエポキシ/ビスマレイミド混 合樹脂アニオンUV硬化系の構築」、第68回高分子討論会、2019年9月27日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 3V04）
    30. 原口咲栄子、岩田瑛里香、古谷昌大、有光晃二、「365 nm光に感光する光潜在性チオールを用いた チオール・エンUV硬化挙動」、第68回高分子討論会、2019年9月27日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 3V05）
    31. 菊地駿、野田国宏、塩田大、古谷昌大、有光晃二、「光および熱により発生する塩基を用いたポリシラン 膜の光パターニングと高強度化」、第68回高分子討論会、2019年9月27日、福井大学文京キャンパス（口頭発表 3U06）
    32. Masahiro Furutani, Kentaro Nakayama, Koji Arimitsu, “A Cross-linking Reagent Derived from 2-Mercaptonicotinic Acid and Its Application to Photoadhesive Materials”, 2019MRS Fall Meeting & Exhibit, December 3, 2019 the Hynes Convention Center, Boston, USA (Poster presentation)
2020
    1. 小松原怜真、古谷昌大、有光晃二、「エポキシ・チオール混合樹脂と光塩基発生剤を用いた柔軟なUV硬化膜の作製と物性評価」、精密ネットワークポリマー研究会第13回若手シンポジウム、2020年3月13日、東京工業大学大岡山キャンパス（ポスター発表P2）新型コロナウイルス対応により中止
    2. 原口咲栄子、古谷昌大、有光晃二、「365 nm光に感光する光潜在性チオールの合成とチオール・エンUV硬化系への応用」、精密ネットワークポリマー研究会第13回若手シンポジウム、2020年3月13日、東京工業大学大岡山キャンパス（ポスター発表P11）新型コロナウイルス対応により中止
    3. 鈴木真由、古谷昌大、有光晃二、「イソシアナート／チオール系のアニオンUV硬化における化学構造の影響」、精密ネットワークポリマー研究会第13回若手シンポジウム、2020年3月13日、東京工業大学大岡山キャンパス（ポスター発表P15）新型コロナウイルス対応により中止
    4. 小松原怜真、古谷昌大、有光晃二、「含ケイ素樹脂を用いたアニオンUV硬化膜の特性」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pb056）新型コロナウイルス対応により中止
    5. 鈴木真由、古谷昌大、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたエピスルフィド/チオール混合樹脂のアニオンUV硬化」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pa057）新型コロナウイルス対応により中止
    6. 叶依風、大當友美子、森谷敏光、古谷昌大、有光晃二、「強塩基を発生する光塩基発生剤を用いた酸無水物混合エポキシ樹脂の低温アニオンUV硬化」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pb058）新型コロナウイルス対応により中止
    7. 小島栄輝、古谷昌大、有光晃二、「連鎖硬化剤を用いた塩基反応性樹脂のアニオンUV硬化」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pa059）新型コロナウイルス対応により中止
    8. 板岡康平、古谷昌大、有光晃二、関隆広、「スルホニウム塩型熱酸発生剤を併用したエポキシ樹脂厚膜の光カチオン重合挙動」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pb060）新型コロナウイルス対応により中止
    9. 原口咲栄子、塩入僚祐、熊野岳、古谷昌大、有光晃二、「365 nm光照射により分解する光潜在性チオールの開発とチオール・エンUV硬化材料への応用」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pa061）新型コロナウイルス対応により中止
    10. 藤江祐太、秋元真歩、國土萌衣、石川信広、緒方寿幸、古谷昌大、有光晃二、「塩基反応性保護基により保護されたポリヒドロキシイミドと光塩基発生剤からなる感光材料の特性評価」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月27日、福岡国際会議場（ポスター発表1Pb062）新型コロナウイルス対応により中止
    11. 植竹和基、古谷昌大、有光晃二、「室温条件下における光誘起レドックス開始重合系の影部UV硬化機構」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月28日、福岡国際会議場（口頭発表2D04）新型コロナウイルス対応により中止
    12. 古谷昌大、藤平大輝、有光晃二、「2-メルカプトピリジル基をもつモノマーを用いた光接着」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月28日、福岡国際会議場（ポスター発表2Pc119）新型コロナウイルス対応により中止
    13. 白井凱己、佐藤咲也子、古谷昌大、有光晃二、「ラジカル－アニオンUV硬化による有機－無機複合膜の作製」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月29日、福岡国際会議場（ポスター発表3Pc049）新型コロナウイルス対応により中止
    14. 長谷川大騎、古谷昌大、有光 晃二、「UV光照射をトリガーとする酸分解性ポリマーの無機フィラーへのポリマーグラフト」、第69回高分子学会年次大会、2020年5月29日、福岡国際会議場（ポスター発表3Pd050）新型コロナウイルス対応により中止
    15. 【招待】有光晃二、「ネットワークポリマーの基礎」、第69回高分子討論会（オンライン開催）、岩田大学上田キャンパス、2020年9月16日（口頭発表 1V04IL）
    16. 小島栄輝、古谷昌大、有光晃二、「環状アミジンを発生する連鎖硬化剤のアニオンUV硬化への応用」、第69回高分子討論会（オンライン開催）、岩田大学上田キャンパス、2020年9月16日（口頭発表 1V14）
    17. 板岡康平、古谷昌大、有光晃二、関隆広、「熱酸発生剤を併用した様々なエポキシ樹脂厚膜の光カチオン重合挙動」、第69回高分子討論会（オンライン開催）、岩田大学上田キャンパス、2020年9月16日（口頭発表 1V15）
    18. 古谷昌大、藤平大輝、有光晃二、「2-メルカプトピリジル基の化学的特徴を活かした光接着材料の創製」、第69回高分子討論会（オンライン開催）、岩田大学上田キャンパス、2020年9月17日（口頭発表 2L02）
2021
    1. 小島栄輝、有光晃二、「有機強塩基を発生する連鎖硬化剤のアニオンUV硬化への応用」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月26日（口頭発表 1G05）
    2. 板岡康平、有光晃二、関隆広、「光カチオン重合を用いたエポキシ樹脂膜の等方相から液晶相への光変換」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月26日（口頭発表 1G06）
    3. 藤江祐太、行森大貴、國土萌衣、石川信広、緒方寿幸、有光晃二、「光塩基発生剤と塩基反応性基により保護されたポリヒドロキシイミドからなる感光性ポリイミドの感光特性」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月26日（口頭発表 1G07）
    4. 白井凱己、佐々木彩乃、有光晃二、「UV硬化を用いた傾斜構造を有する有機－無機複合コーティング膜の作製」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月26日（口頭発表 1H23）
    5. 角屋敷真琴、有光晃二、「固体高分子型燃料電池に用いられるナフィオン膜用の光接着剤の作製と評価」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月27日（口頭発表 2H13）
    6. 秋本悠里、脇屋武司、有光晃二、「カチオン重合によるポリマー微粒子の調製に関する研究」、第70回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2021年5月27日（ポスター発表 2Pa035）
    7. 板岡康平、青木大亮、有光晃二、関隆広、「自由界面への光照射により開始するカチオンUV硬化を用いたエポキシ樹脂膜の等方相から液晶相への変換」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月6日（ポスター発表 1Pe035）
    8. 藤江祐太、行森大貴、石川信広、緒方寿幸、青木大亮、有光晃二、「塩基反応性保護基を有するポリヒドロキシイミドと光塩基発生剤からなる感光性ポリイミドの感光特性」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月6日（ポスター発表 1Pf036）
    9. 小島栄輝、青木大亮、有光晃二、「連鎖硬化剤を用いたアニオンUV硬化の高効率化」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月7日（口頭発表 2O05）
    10. 白井凱己、佐々木彩乃、青木大亮、有光晃二、「ラジカル－アニオンUV硬化を用いた傾斜構造を有する有機－無機ハイブリッド膜の作製」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月7日（口頭発表 2O06）
    11. 秋本悠里、脇屋武司、青木大亮、有光晃二、「エポキシドを用いたカチオン分散重合によるポリマー微粒子の調製に関する研究」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月8日（ポスター発表 3Pa031）
    12. 角屋敷真琴、青木大亮、有光晃二、「固体高分子型燃料電池の触媒層用プロトン伝導性材料の作製」、第70回高分子討論会（オンライン開催）、2021年9月8日（ポスター発表 3Pd046）
    13. Yuri Akimoto, Takeshi Wakiya, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Cationic dispersion polymerization reactions for preparation of polymeric microsphere”, Pacifichem 2021 (Virtual), December 18, 2021 (Poster presentation).
    14. Yoshiki Shirai, Sayako Sato, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Radical-anionic UV curing for preparation of organic-inorganic composite films”, Pacifichem 2021 (Virtual), December 18, 2021 (Poster presentation).
    15. Yuta Fujie, Mei Kunito, Maho Akimoto, Nobuhiro Ishikawa, Toshiyuki Ogata, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Positive-tone photo-patterning of films consisting of photobase generators and polyimide materials with base-reactive groups”, Pacifichem 2021 (Virtual), December 18, 2021 (Poster presentation).
    16. Makoto Kadoyashiki, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Proton conducting photo-adhesive material for Nafion films in a polymer electric fuel cell”, Pacifichem 2021 (Virtual), December 18, 2021 (Poster presentation).
    17. Kohei Itaoka, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, Takahiro Seki, “Photoinduced cationic polymerization with liquid-crystalline epoxy resins in a thick film”, Pacifichem 2021 (Virtual), December 18, 2021 (Poster presentation).
2022
    1. 谷翼、青木大亮、有光晃二、「潜在性塩基を用いたポリアミド酸エステルのイミド化挙動」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月23日（口頭発表、C203-1am-09）
    2. 杉田健有、青木大亮、有光晃二、「メタクリル酸グリシジルで修飾されたポリシランの合成と光パターニングへの応用」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月23日（口頭発表、C203-1am-10）
    3. 渡邉高史、青木大亮、有光晃二、「酸増殖剤を含む黒色化学増幅レジストの感光特性」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月23日（口頭発表、C203-1am-11）
    4. 髙野将大、大村健人、大房一樹、青木大亮、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたメチレンマロネートの光アニオン重合」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月25日（口頭発表、C204-3am-10）
    5. 小川七海、青木大亮、有光晃二、「アミノピリジンを発生する光塩基発生剤を用いた厚膜のアニオンUV硬化」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月25日（口頭発表、C204-3am-11）
    6. 滝沢理久、石井拓、青木大亮、有光晃二、「フタルアルデヒド酸誘導体の合成と性質」、日本化学会第102春季年会(2022)（オンライン開催）、2022年3月25日（口頭発表、C204-3am-12）
    7. 小川七海、青木大亮、有光晃二、「アミノピリジンを発生する光塩基発生剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化挙動」、第71回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2022年5月26日（口頭発表、2E12）
    8. 滝沢理久、石井拓、青木大亮、有光晃二、「光環化反応により第三級アミンを発せさせる光塩基発生剤を用いた高感度アニオンUV硬化」、第71回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2022年5月26日（口頭発表、2E13）
    9. 杉田健有、青木大亮、有光晃二、「メタクリル酸グリシジルで修飾されたポリシランを用いた光パターン形成」、第71回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2022年5月26日（口頭発表、2E14）
    10. 髙野将大、青木大亮、有光晃二、「アウトガスのない光塩基発生剤を用いたメチレンマロネートの光アニオン重合」、第71回高分子学会年次大会（オンライン開催）、2022年5月27日（口頭発表、3E11）
    11. Masahiro Furutani, Daiki Fujihira, Kaoru.Endo, Koji Arimitsu, “Fabrication of photo-adhesive materials utilizing chemical properties of 2-mercaptopyridyl groups”, RadTech Asia 2022, August 26, 2022, Tsukuba International Congress Center, Ibaraki, Japan (Oral presentation S3-04)
    12. Kenyu Sugita, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Synthesis of polysilane modified with glycidyl methacrylate and fabrication of negative-tone photopatterns”, RadTech Asia 2022, August 26, 2022, Tsukuba International Congress Center, Ibaraki, Japan (Oral presentation S4-10)
    13. Ataru Daimon, Kazuki Uetake, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “UV curing of shadow parts at room temperature by photoinduced redox-initiated radical polymerization”, RadTech Asia 2022, August 25, 2022, Tsukuba International Congress Center, Ibaraki, Japan (Poster presentation P-08)
    14. Natsumi Ogawa, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu, “Anionic UV curing behavior of epoxy resins containing a photobase generator releasing aminopyridine”, RadTech Asia 2022, August 25, 2022, Tsukuba International Congress Center, Ibaraki, Japan (Poster presentation P-09)
    15. 杉田健有、行森大貴、石川信広、青木大亮、有光晃二、「種々のラジカル重合性モノマーで修飾されたポリシランを用いた光パターン形成」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月5日（口頭発表 1S12）
    16. 渡邉高史、加藤圭吾、松村和行、青木大亮、有光晃二、「酸増殖剤を含む感光性ポリイミドの感光特性」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月5日（口頭発表 1S13）
    17. 滝沢理久、青木大亮、有光晃二、「フタルアルデヒド酸誘導体を光塩基発生剤として用いたエポキシ/チオール混合樹脂のアニオンUV硬化」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3R03）
    18. 丸山真矢、青木大亮、有光晃二、「イミダゾール類を生成する光塩基発生剤の連鎖硬化 剤としての機能とアニオンUV硬化への応用」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3R04）
    19. 髙野将大、青木大亮、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたラクトンの光アニオン重合とその応用」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3R05）
    20. 小川七海、青木大亮、有光晃二、「エポキシ樹脂のアニオンUV硬化におけるアミノピリジンを発生する塩基増殖剤の添加効果」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3N11）
    21. 田仲ななえ、田中佑耶、青木大亮、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたチオール－エポキシ系の室温アニオンUV硬化特性」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3N12）
    22. 大門能、植竹和基、河田晋治、緒方雄大、青木大亮、有光晃二、「光塩基発生剤を用いた光誘起レドックス開始ラジカル重合による室温条件下での影部UV硬化」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3N13）
    23. 安田健人、青木大亮、有光晃二、「イオン性櫛型ポリマーの対イオン種による強靭化現象」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3J16）
    24. 森谷聡基、青木大亮、有光晃二、「アミンを発生する光塩基発生剤を用いた1液型ウレア 接着剤の開発」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3O16）
    25. 堂越茂将、青木大亮、有光晃二、「アミノピリジンを発生する光塩基発生剤の黒色レジスト材料への応用」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3O17）
    26. 谷翼、青木大亮、有光晃二、「光塩基発生剤を用いたポリアミド酸エステルのイミド化挙動」、第71回高分子討論会、北海道大学札幌キャンパス、2022年9月7日（口頭発表 3O18）

 

(7) 学外活動

    1. 一般社団法人　ラドテック研究会（RadTech Japan）理事：2004年9月～∞
    2. 色材協会創立80周年記念大会実行委員会小委員会：2007年4月～2007年9月
    3. RadTech Asia 国際会議2009 実行委員（プログラム委員）：2007年8月～2009年11月
    4. RadTech Asia 国際会議2011 実行委員（プログラム委員）：2009年12月～2011年9月
    5. 公益社団法人　日本化学会関東支部　代議員：2007年11月1日～2009年10月31日
    6. 公益社団法人　日本化学会関東支部　代議員：2012年10月27日～2013年11月1日
    7. 公益社団法人　日本化学会関東支部 幹事：2013年3月1日～2016年2月29日
    8. RadTech Asia 国際会議2016 実行委員会副委員長：2014年9月～2016年12月
    9. エポキシ樹脂技術協会　特別会員：2014年9月～
    10. 公益社団法人　高分子学会　第64回高分子討論会セッションオーガナイザー：2014年12月5日～2015年9月17日
    11. 公益社団法人　日本化学会関東支部　代議員：2015年10月31日～2016年10月28日
    12. 公益社団法人　高分子学会　精密ネットワークポリマー研究会運営委員：2016年4月～2018年3月
    13. ASTEC(Advanced Surface Technology Exhibition & Conference)実行委員会委員：2016年6月21日～実行委員会解散時
    14. 公益社団法人　高分子学会　印刷・情報・電子用材料研究会運営委委員：2017年4月～
    15. 公益社団法人　高分子学会　精密ネットワークポリマー研究会運営委員長：2018年4月～2020年3月
    16. 一般社団法人　ラドテック研究会（RadTech Japan）副会長：2018年10月～

(8) プレスリリース

    1. 発表者　：有光晃二
      発表内容：高効率な光塩基発生剤を世界で初めて開発し、和光純薬工業株式会社より販売されることをプレス発表した。
      発表先　：日刊工業新聞
      発表年　：2011年11月24日
    2. 発表者　：有光晃二
      発表内容：高効率な光塩基発生剤を世界で初めて開発し、実用化されることをプレス発表した。
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2011年11月24日
    3. 発表者　：有光晃二
      発表内容：高効率な光塩基発生剤を世界で初めて開発し、実用化されることをプレス発表した。
      発表先　：日経産業新聞
      発表年　：2011年11月30日
    4. 発表者　：有光晃二
      発表内容：高効率な光塩基発生剤を世界で初めて開発し、実用化されることをプレス発表した。
      発表先　：接着剤新聞
      発表年　：2011年12月20日
    5. 発表者　：Koji Arimitsu
      発表内容：Development of Photobase Generators Capable of High Efficiency Strong Base Production
      発表先　：Asia Research News 2011 (Web)
      発表年　：22nd, December, 2011
    6. 発表者　：有光晃二
      発表内容：光潜在性チオールを世界で初めて開発し、UV硬化材料の高機能化が実現したことをプレス発表した。
      発表先　：日経産業新聞
      発表年　：2012年9月18日
    7. 発表者　：有光晃二
      発表内容：「UV/EB硬化技術の最近の進歩と展望」と題する総説
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2013年9月18日
    8. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：「UV・EB技術が導く未来予想図　イノベーションへの挑戦　～UV/EB技術ロードマップ～」
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2017年4月3日
    9. 発表者　：有光晃二 、松川公洋
      発表内容：「対談　UV/EB技術　現状と将来性」
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2017年9月22日
    10. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：「非イオン型光塩基発生剤」
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2019年9月24日
    11. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：「長時間で固まる光硬化剤」
      発表先　：日刊工業新聞
      発表年　：2019年9月24日
    12. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：「新規光塩基発生剤を開発」
      発表先　：接着剤新聞
      発表年　：2019年10月10日
    13. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：「高効率で強塩基発生　非イオン型光塩基発生剤」
      発表先　：フジサンケイビジネスアイ
      発表年　：2019年11月27日
    14. 発表者　：有光晃二 
      発表内容：UV/EB関連技術・製品の現状と未来
      発表先　：化学工業日報
      発表年　：2022年6月27日

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